Thèse soutenue

Développement d’une méthodologie par rayons X et laser impulsionnel pour l’évaluation des effets des radiations sur les composants semiconducteurs avancés

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Auteur / Autrice : Catherine Madjiguène Ngom
Direction : Antoine TouboulFabio Coccetti
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Électronique
Date : Soutenance le 07/12/2021
Etablissement(s) : Montpellier
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Information, Structures, Systèmes (Montpellier ; 2015-....)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Institut d'électronique et des systèmes (Montpellier)
Jury : Président / Présidente : Frédéric Wrobel
Examinateurs / Examinatrices : Fabio Coccetti, Frédéric Wrobel, Nathalie Malbert, Patrick Austin, Frédéric Saigné, Vincent Pouget, Moustafa Zerarka, Françoise Bezerra
Rapporteurs / Rapporteuses : Nathalie Malbert, Patrick Austin

Mots clés

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Résumé

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Les nouvelles technologies de composant de puissance à base de semiconducteurs à grande bande interdite constituent une alternative intéressante aux technologies Silicium pour de nombreuses applications en raison de leur efficacité de conversion, en particulier dans le contexte de la transition énergétique. Les composants de type HEMT (High Electron Mobility Transistor) à base d’hétérojonction AlGaN/GaN sont particulièrement prometteurs pour des applications dans les domaines spatial, aéronautique et automobile. Or, les composants et systèmes électroniques exposés aux radiations de l’environnement radiatif naturel (ERN) sont susceptibles de connaitre différents types de défaillances induites par des effets singuliers ou des effets cumulatifs des radiations. L’évaluation des effets destructifs des radiations s’effectue classiquement par des essais sous faisceau de particules. Dans cette thèse, nous avons étudié la possibilité d’utiliser deux techniques de test complémentaires pour évaluer la sensibilité de composants commerciaux HEMT GaN aux effets singuliers des radiations. La première technique, bien connue pour les technologies silicium, consiste à reproduire l’injection de charge transitoire et localisée d’une particule par l’absorption photoélectrique d’une impulsion laser. La seconde technique, d’émergence récente, consiste à utiliser un faisceau de rayons X focalisés.Un état de l’art des effets des radiations sur les technologies GaN est tout d’abord présenté. Les composants d’intérêt de notre étude sont ensuite détaillés, caractérisés, et l’un est modélisé physiquement par éléments finis (TCAD).La technique de test par faisceau laser est ensuite adaptée aux spécificités des composants GaN sur substrat Si. Une modélisation de l’absorption multiphotonique exploitée est proposée, et les premiers résultats expérimentaux d’injection de charge par la face arrière dans ce type de composant par absorption 3-photons sont présentés. Ils démontrent la capacité du test laser à induire des évènements non-destructifs et destructifs dans ces composants avec une excellente résolution spatiale permettant d’envisager l’analyse des mécanismes de collection de charge et de défaillance dans ces composants.La technique de test par faisceau de rayons X focalisés est tout d’abord explorée par une modélisation à l’aide de GEANT4. Les résultats issus d’une première campagne expérimentale menée à l’ESRF sont présentés, incluant l’observation d’un évènement destructif. Ils permettent d’identifier les possibilités et limitations actuelles de la technique.Enfin, les résultats précédents sont confrontés à des résultats issus de tests sous ions lourds. Cette comparaison met en évidence des points de convergence et des différences propres à chaque technique. Une méthodologie de choix de la technique de test la mieux appropriée en fonction des attentes est proposée et des perspectives de travail sont identifiées pour poursuivre la maturation des techniques complémentaires étudiées.