Thèse soutenue

Elaboration par CVI/CVD et caractérisation de dépôts dans le système Si-N(-O)
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Auteur / Autrice : Benjamin Cossou
Direction : Georges ChollonSylvain Jacques
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Physico-chimie de la matière condensée
Date : Soutenance le 14/09/2018
Etablissement(s) : Bordeaux
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale des sciences chimiques (Talence, Gironde ; 1991-....)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Laboratoire des Composites Thermostructuraux (Bordeaux)
Jury : Président / Présidente : Christelle Tixier
Examinateurs / Examinatrices : Georges Chollon, Sylvain Jacques, Christelle Tixier, Constantin Vahlas, Gabriel Ferro, Clément Lomonaco
Rapporteurs / Rapporteuses : Constantin Vahlas, Gabriel Ferro

Résumé

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La thèse porte sur cette couche de nitrure ou d’oxynitrure de silicium. Le déroulé prévoit l’élaboration des deux types de dépôts par voie gazeuse (par Chemical Vapor Infiltration CVI), la caractérisation de ces dépôts (par tous les moyens scientifiques à disposition et jugés utiles), ainsi que des essais en conditions proches de l’application visée (haute température, présence de phases liquides) pour juger de l’efficacité de ces dépôts et notamment effectuer une comparaison entre le nitrure et l’oxynitrure. Une étude complète des paramètres modifiables lors de l’élaboration et de leur effet sur la chimie (et par conséquent l’influence sur le comportement du matériau en conditions d’utilisation) représente le cœur du travail considéré.