Etude des propriétés structurales et des défauts dans le système CdxHg1-xTe / Cd1-yZnyTe et recherche de voies d'améliorations technologiques pour la détection infrarouge à hautes températures
Auteur / Autrice : | Yohan Fourreau |
Direction : | Gilles Patriarche |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Physique et chimie des matériaux |
Date : | Soutenance le 01/07/2016 |
Etablissement(s) : | Paris 6 |
Ecole(s) doctorale(s) : | École doctorale Physique et chimie des matériaux (Paris ; 2000-....) |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Laboratoire de Photonique et de Nanostructures (Marcoussis, Essonne ; 1984-2016) |
Jury : | Président / Présidente : Jean-Michel Gérard |
Examinateurs / Examinatrices : Christian Brylinski, Philippe Ballet, Vincent Destefanis, Jean-Christophe Peyrard | |
Rapporteur / Rapporteuse : Engin Molva, Philippe Christol |
Mots clés
Résumé
La problématique de qualité des images des composants matriciels IR refroidis, à base de matériaux II-VI, fait partie des enjeux critiques pour SOFRADIR. Positionnées dans un contexte très concurrentiel, cette problématique est exacerbée à hautes températures (HOT). Elle concerne en particulier les filières CdHgTe, confrontées à des instabilités en bruit de certains pixels, dits ''clignotants'', difficilement corrigibles. Des études internes à SOFRADIR montrent un fort degré de corrélation entre ce bruit spécifique et la défectivité (densité de dislocations) de la couche d’absorption CdHgTe. L’amélioration des performances en bruit des imageurs IR à base de matériaux II-VI passe donc par l’amélioration de la défectivité de l’alliage CdHgTe. C’est l’objet de ces travaux de thèse. Plus spécifiquement, ces travaux ont eu pour principal objectif la réduction de la densité de dislocations des couches CdHgTe(111)B élaborées par Epitaxie en Phase Liquide (EPL) sur substrats CdZnTe, dits à ''accord de maille''. Précisément, ces études ciblent la réduction de la défectivité inhérente au désaccord paramétrique. Ces travaux montrent que la qualité cristalline des épitaxies CdHgTe se situe à l’état de l’art mondial lorsque les croissances s’effectuent à accord paramétrique. La dégradation de la qualité cristalline des croissances est corrélée avec l’augmentation du désaccord paramétrique, au demeurant très faible dans ce système (0,1% maximum). Plusieurs solutions ont été mises en œuvre dans ces travaux pour limiter la formation de dislocations dans l’épitaxie CdHgTe. Notamment, une méthode originale d’épitaxie du CdHgTe a été développée pour permettre la croissance de couches buffers épaisses entre le substrat et l’épitaxie. L’efficacité de cette méthode a été évaluée par des caractérisations physico-chimiques approfondies des couches buffers et des épitaxies HgCdTe EPL reprises sur ces mêmes buffers. Les performances électro-optiques de composants intégrant ces empilements ont également été évaluées. D’autres stratégies technologiques ont été étudiées afin d’améliorer la défectivité des alliages CdHgTe. L’étude de substrats quaternaires CdZnTeSe à paramètre de maille constant a ainsi été adressée. La qualité cristalline de ces substrats et des épitaxies CdHgTe réalisées est proche de l’état de l’art. Ces conclusions préliminaires ouvrent des perspectives de grand intérêt technologique.