Thèse soutenue

Solutions technologiques avancées pour CMOS ultime : grille métal damascene, diélectrique high-k, SOI avec film mince, alumine enterrée et plan de masse

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Auteur / Autrice : Kyosuke Oshima
Direction : Sorin CristoloveanuHiroshi Iwai
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Microélectronique
Date : Soutenance en 2004
Etablissement(s) : Grenoble INPG