Solutions technologiques avancées pour CMOS ultime : grille métal damascene, diélectrique high-k, SOI avec film mince, alumine enterrée et plan de masse
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Auteur / Autrice : | Kyosuke Oshima |
Direction : | Sorin Cristoloveanu, Hiroshi Iwai |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Microélectronique |
Date : | Soutenance en 2004 |
Etablissement(s) : | Grenoble INPG |