Élaboration par pulvérisation ionique réactive et caractérisation de couches minces de carbonitrure amorphe a-CNx
Auteur / Autrice : | Ntumba Mubumbila |
Direction : | Guy Turban, Pierre-Yves Tessier |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Science des matériaux, plasma, couches minces |
Date : | Soutenance en 2003 |
Etablissement(s) : | Nantes |
Ecole(s) doctorale(s) : | École doctorale sciences et technologies de l'information et des matériaux (Nantes) |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Ce travail est consacré à l'étude des films minces de carbonitrure amorphe déposés par pulvérisation triode et par magnétron r. F. (13,56 MHz). Pour le système magnétron, les paramètres de dépôt sont la pression totale du gaz et la composition d'azote. Pour le système triode, les paramètres de dépôt sont la pression partielle d'azote, la densité de puissance de la cible et la polarisation des substrats. Les caractéristiques du plasma d'azote sont étudiés dans le système magnétron : la spectroscopie d'émission optique est utilisée pour déterminer la proportion relative des espèces azotées atomiques ou moléculaires et des espèces radicalaires CN ; la sonde de Langmuir est utilisée pour mesurer les paramètres électriques de la décharge. Les effets de l'incorporation d'azote ont été étudiés sur la cinétique de croissance, la composition, la structure et le type de liaisons dans les films CNx. . .