Conception et caractérisation d'une décharge capacitive à 13,56 MHz utilisant une cathode à champ magnétique dynamique intégré pour la gravure sèche des microcircuits
Auteur / Autrice : | Guillaume Ravel |
Direction : | Alain Deneuville |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences appliquées. Microélectronique |
Date : | Soutenance en 1987 |
Etablissement(s) : | Université Joseph Fourier (Grenoble ; 1971-2015) |
Mots clés
Mots clés libres
Résumé
Ce memoire decrit la mise en oeuvre, l'etude et la caracterisation d'un reacteur de gravure seche pour le traitement de substrats en microelectronique. Apres une analyse tres schematique des parametres d'une action de gravure et des influences respectives sur ces parametres de diverses structures de decharge, nous avons developpe un dispositif experimental utilisant deux electrodes excitees en radiofrequence et un champ magnetique externe. Une phase d'evaluation sur des gravures de silicium polycristallin en plasma de sf::(6) nous a conduit a un reacteur prototype dote d'une cathode originale a champ magnetique dynamique integre. Les caracteristiques de ce reacteur dans deux modes de fonctionnement ont ete etudies par une methode optique de spectrometrie d'emission et une methode nouvelle de mesures d'impedance de decharges en radiofrequence. Des gains importants ont ete observes sur les caracteristiques de fonctionnement en sf::(6) et cl::(2) (vitesse de gravure, densites de courant d'ions) par l'application du champ magnetique sur la decharge