Extraction de la rugosité de flans de lignes avec une résolution sub-nanométrique

Extraction of edge line roughness with sub nanometric resolution

• Auteur / Autrice : Nischal Dhungana
• Direction : Guillaume Freychet
• Type : Projet de thèse
• Discipline(s) : Physique des matériaux
• Date : Inscription en doctorat le 01/11/2024
• Etablissement(s) : Université Grenoble Alpes
• Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale physique (Grenoble, Isère, France ; 1991-....)
• Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (LETI)

Mots clés

Mots clés libres

Cd-saxs

Rugosité

Résolution sub-nanométrique

Cd-saxs

Roughness

Sub nanometric resolution

Résumé

Etude de la rugosité de flans de lignes avec une résolution sub-nanométrique par pour répondre aux résolutions demandées pour les futurs nœuds technologiques (cadre NextGen). Le sujet est centré autour de la diffusion centrales des rayons X (SAXS) avec des mesures pionnières au synchrotron pour démontrer les capacités de la technique à extraire la rugosité de flan de ligne avec une résolution sub-nm. Ces résultats seront comparés avec ceux obtenus sur les équipements in-line du CEA telles que les microscopies AFM-3D et SEM

Study of the roughness of line sidewalls with sub-nanometric resolution to meet the required resolutions for future technology nodes (NextGen framework). The subject is centered around small-angle X-ray scattering (SAXS) with pioneering measurements at the synchrotron to demonstrate the technique's ability to extract line sidewall roughness with sub-nm resolution. These results will be compared with those obtained on the CEA's in-line equipment, such as AFM-3D and SEM microscopes.