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Abdellatif Chelouche

est l'auteur d'une thèse

Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma Implantation ionique Nanocristaux Nanocristaux semiconducteurs PECVD RAMAN RBS Semiconducteurs dopés Si1-xGex SiO2 SiOxNy Transistors bipolaires à hétérojonctions

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Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma Implantation ionique Nanocristaux Nanocristaux semiconducteurs PECVD RAMAN RBS Semiconducteurs dopés Si1-xGex SiO2 SiOxNy Transistors bipolaires à hétérojonctions

Abdellatif Chelouche a rédigé la thèse suivante :

Croissance et caractérisation de nano-cristaux fonctionnels de Si1-xGex éventuellement dopés dans diverses matrices diélectriques

par Abdellatif Chelouche sous la direction de Daniel Mathiot - Strasbourg

Physique et technologie des composants

Soutenue le 03-07-2018

Thèse soutenue

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