Thèse soutenue

Simulation semi-empirique et ab-initio du transport quantique dans les composants nanométriques

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Auteur / Autrice : Adel M'Foukh
Direction : Marco PalaPhilippe Dollfus
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Electronique, Photonique et Micro-Nanotechnologies
Date : Soutenance le 13/02/2023
Etablissement(s) : université Paris-Saclay
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Electrical, optical, bio-physics and engineering
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Centre de nanosciences et de nanotechnologies (Palaiseau, Essonne ; 2016-....)
référent : Faculté des sciences d'Orsay
graduate school : Université Paris-Saclay. Graduate School Sciences de l'ingénierie et des systèmes (2020-....)
Jury : Président / Présidente : Frédéric Aniel
Examinateurs / Examinatrices : Mathieu Luisier, Fabienne Michelini, Demetrio Logoteta
Rapporteurs / Rapporteuses : Mathieu Luisier, Fabienne Michelini

Résumé

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La diminution agressive de la taille des transistors menée par l'industrie microélectronique a atteint l'échelle nanométrique. Les performances des composants à cette échelle sont fortement impactées par des phénomènes quantiques (effet tunnel, confinement, interférence, ...) mais le contrôle électrostatique devient également plus délicat. Pour gagner en performance, il devient indispensable de prendre ces phénomènes en compte et d'explorer des alternatives au MOSFET à base de silicium qui est la référence actuelle. En support de cette tâche, il est important de mettre en place une approche théorique rigoureuse pour étudier les propriétés électroniques des matériaux et simuler les performances des composants. Dans cette thèse, nous proposons de développer un modèle du transport électronique basé sur le formalisme des fonctions de Green hors équilibre. La particularité de notre approche est l'utilisation de Hamiltoniens de type pseudopotentiels développés sur des ondes planes. Ces Hamiltoniens peuvent être de type soit semi-empirique soit ab-initio. Ils permettent d'obtenir une description atomistique du matériau et ainsi d'avoir une description précise à l'échelle microscopique. Dans un premier temps, nous développons le modèle des Hamiltoniens pseudopotentiels empiriques pour étudier des hétérostructures de matériaux III/V (InAs/GaSb) avec une interface non abrupte. Cette méthode a été appliquée à l'étude de composants basés sur l'effet tunnel, la diode Esaki et le tunnel FET. Les résultats montrent une dégradation du courant lorsque la région de transition est longue. Une comparaison avec une étude expérimentale a permis également de montrer la précision de nos simulations. Pour la suite, la thèse se concentre sur les Hamiltoniens obtenus à partir de calculs ab-initio. Nous avons commencé avec le développement d'un modèle pour étudier les Hamiltoniens des hétérostructures en étudiant deux approches ab-initio, une basée sur le Hamiltonien d'un des matériaux isolés et la deuxième basée sur le Hamiltonien d'une super cellule de l'hétérostructure. Les modèles ont été appliquées à deux composants, un MOSFET composé de monocouche et bicouche de PtSe₂ et un tunnel FET composé de monocouche PdSe₂ et de monocouche SnS₂. Cela a permis de montrer que l'étude de l'interface entre deux matériaux distincts requiert l'utilisation d'approches sophistiquées pour décrire le couplage entre les matériaux. Pour améliorer le modèle, nous avons ensuite inclus les interactions électron-phonon. Nous avons utilisé d'abord des potentiels de déformation, dérivés de calculs ab-initio, pour décrire les couplages avec les phonons sous l'approximation de Born auto-cohérente. Ce modèle a été appliqué à l'étude d'un tunnel FET fait avec l'hétérostructure d'une mono3 couche HfSe₂ et d'une monocouche SnS₂. Deux architectures différentes ont été étudiées, une avec un empilement vertical des matériaux 2D et l'autre avec une hétérostructure latérale. Les résultats montrent que les phonons jouent un rôle important sur les propriétés de transmission en générant une augmentation du courant via une transmission inter-vallée. Enfin, l'hétérostructure verticale ressort comme la candidate la plus prometteuse avec une pente sous le seuil de 40 mV/dec pour un courant à l'état ON de 580 mA/µm à VDD = 0.35 V. Finalement, une description plus rigoureuse du couplage électron-phonon pour le transport est proposée. Nous avons développé un modèle utilisant le calcul ab-initio des éléments de matrice électron-phonon et des fréquences des phonons. Ce modèle a été comparé à la littérature et à la méthode des potentiels de déformation par l'étude du monocouche MoS₂ avec des calculs de mobilité. Enfin, l'étude de dispositifs CMOS a été réalisée à partir de deux MOSFETs de type n (monocouche MoS₂) et de type p (monocouche WSe₂). Malgré les phonons, les composants satisfont les prédictions pour les prochaines générations de transistor.