Accélération d'électrons par sillage laser-plasma
Auteur / Autrice : | Lewis Dickson |
Direction : | Brigitte Cros |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Physique |
Date : | Soutenance le 29/03/2023 |
Etablissement(s) : | université Paris-Saclay |
Ecole(s) doctorale(s) : | École doctorale Ondes et matière (Orsay, Essonne ; 2015-....) |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Laboratoire de physique des gaz et des plasmas (Orsay, Essonne ; 1965-....) |
Référent : Université Paris-Saclay. Faculté des sciences d’Orsay (Essonne ; 2020-....) | |
graduate school : Université Paris-Saclay. Graduate School Physique (2020-….) | |
Jury : | Président / Présidente : Jacques Robert |
Examinateurs / Examinatrices : Patric Muggli, Laura Corner, Emmanuel d' Humières | |
Rapporteurs / Rapporteuses : Patric Muggli, Laura Corner |
Résumé
L'accélération par sillage laser plasma fournit des gradients accélérateurs plusieurs ordres de grandeur au dessus de ceux des accélérateurs actuels, mais la stabilité et la qualité des faisceaux d'électrons accélérées doivent être améliorées. Ce travail est centré sur l'étude d'injecteurs laser-plasma (LPI) à basse (150 MeV) et haute énergie (1 GeV) créés en cellule de gaz. Des outils expérimentaux et numériques ont été développés pour l'optimisation et le diagnostic de l'interaction laser-plasma. Une nouvelle méthode de mesure monocoup de la densité plasma en cellule de gaz a été mise au point et utilisée. Des méthodes d'intelligence artificielles ont été mises en oeuvre pour l'automatisation, le diagnostic et l'optimisation d'une expérience de sillage laser plasma. Les effets du front d'onde du laser, de la position focale, et de la densité du plasma ont été mesurés et comparés à des simulations. Des profils laser réalistes, utilisés comme données d'entrée, ont permis d'améliorer fortement la précision des simulations et d'expliquer l'impact de l'asymétrie du laser sur les propriétés des électrons. Une expérience de qualification utilisant une cellule à gaz dans la zone focale longue de l'installation laser Apollon a permis d'obtenir des électrons jusqu'au GeV. Une deuxième campagne a permis d'améliorer la stabilité et la qualité des faisceaux d'électrons jusqu'à 1.8 GeV.