Thèse soutenue

Croissance de couches minces de KNbO3 par MOCVD à injection de liquide pour des applications électro-actives

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Auteur / Autrice : Ishamol Labbaveettil Basheer
Direction : Ausrine Bartasyte
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Sciences pour l'Ingénieur
Date : Soutenance le 06/12/2023
Etablissement(s) : Bourgogne Franche-Comté
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Sciences pour l'ingénieur et microtechniques (Besançon ; 1991-....)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : FEMTO-ST : Franche-Comté Electronique Mécanique Thermique et Optique - Sciences et Technologies (Besançon) - Franche-Comté Électronique Mécanique- Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174) / FEMTO-ST
Etablissement de préparation : Université de Franche-Comté (1971-2024)
Jury : Président / Présidente : Nicolas Martin
Examinateurs / Examinatrices : Graziella Malandrino, Stéphane Daniele
Rapporteur / Rapporteuse : Naoufal Bahlawane, Elisabeth Blanquet

Mots clés

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Mots clés contrôlés

Résumé

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Parmi les ferroélectriques, le Perovskite KNbO3 a suscité une grande attention dans le domaine des dispositifs électro-actifs pour ses propriétés électro-optiques et piézoélectriques. Toutefois, la synthèse de monocristaux de KNbO3 reste un défi, ce qui se traduit par la disponibilité seulement de cristaux coûteux et de petite taille. Afin de combler cette lacune pour les applications industrielles, l'accent a été mis sur les couches minces de KNbO3. Cependant, la production de couches minces de KNbO3 s'avère être une tâche complexe en raison de la volatilité et de la réactivité élevées du K2O. Le contrôle de la stœchiométrie des couches minces dans des conditions de vide et haute température, typiques des méthodes de dépôt, est compliqué en raison de la volatilité augmentée. Ces défis peuvent être plus facilement surmontés avec les méthodes de dépôt chimique, où l'ajustement de la composition est plus facile en équilibrant le ratio des différents précurseurs. Cette étude utilise le dépôt chimique en phase vapeur métallo-organique à injection de liquide, qui offre un contrôle numérique du dépôt du film et de la teneur en potassium, et par conséquent de la stœchiométrie. Il est essentiel de sélectionner un précurseur chimique à forte volatilité, à faible température d'évaporation et à bonne solubilité. L'impact de la chimie des précurseurs sur la composition, la morphologie et la microstructure des films de KNbO3 a été étudié. En outre, la croissance épitaxiale sur différents substrats a été testée et les propriétés ferroélectriques et pyroélectriques des films optimisés ont été mesurées.