Thèse soutenue

Assemblage de particules colloïdales pour l'élaboration de films minces d'oxyde de nickel

FR  |  
EN
Auteur / Autrice : Siham Mouhtadi
Direction : Isabelle PochardCédric Buron
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Chimie
Date : Soutenance le 06/12/2022
Etablissement(s) : Bourgogne Franche-Comté
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Carnot-Pasteur
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Institut UTINAM (Univers, transport, interfaces, nanostructures, atmosphère et environnement, molécules) (Besançon) - Univers- Transport- Interfaces- Nanostructures- Atmosphère et environnement- Molécules (UMR 6213) / UTINAM
etatblissement de prépatation : Université de Franche-Comté (1971-....)
Jury : Président / Présidente : Claudine Filiâtre
Examinateurs / Examinatrices : Begoña Ferrari Fernández
Rapporteurs / Rapporteuses : Karine Mougin, Guy Ladam

Mots clés

FR  |  
EN

Mots clés contrôlés

Résumé

FR  |  
EN

La thèse s’inscrit dans le domaine des matériaux avancés et a pour objectif l’élaboration de films minces d’oxyde de nickel à partir de particules colloïdales pour des applications dans le domaine de l’énergie, en particulier pour les nouvelles générations de batteries. Il s’agit d’un travail fondamental de compréhension des caractéristiques des films obtenus (épaisseur, porosité, morphologie, conduction) en lien avec les propriétés physico-chimiques de la dispersion colloïdale et de la technique de dépôt (électrophorèse ou dip-coating).Les particules initiales d’hydroxyde de nickel sont synthétisées afin de contrôler leurs propriétés, notamment de stabilité colloïdale, en vue des dépôts. Ceux-ci sont réalisés éventuellement en présence de polymères. Une étape de calcination consécutive aux dépôts permet de transformer l’hydroxyde de nickel en oxyde de nickel, mais aussi de calciner les polymères afin de créer de la porosité dans le dépôt. Les caractéristiques des films (épaisseur, morphologie, porosité, conduction électrique) peuvent être modulées selon le type d’élaboration (nature de la suspension colloïdale et méthode de dépôt). Les propriétés électrochimiques des films de NiO sont très dépendantes de l’épaisseur et de la porosité.