Thèse soutenue

Graphène et matériaux 2D : techniques de transfert, fabrication d'hétérostructures et applications

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Auteur / Autrice : Soukaina Ben Salk
Direction : Henri HappyEmiliano Pallecchi
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Electronique, microélectronique, nanoélectronique et micro-onde
Date : Soutenance le 25/06/2020
Etablissement(s) : Université de Lille (2018-2021)
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Sciences pour l'ingénieur (Lille)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Institut d'Electronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie

Résumé

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L’excellente mobilité du graphène en fait un matériau de choix pour les applications radiofréquence. Cependant, cette mobilité est limitée expérimentalement par les défauts structuraux et environnants introduits par la croissance du matériau sur substrat métallique, la méthode de transfert sur un support hôte, l’interaction du graphène avec le substrat hôte sur lequel il est transféré et par les procédés de fabrication des composants. Cette thèse, cofinancée par la Région Hauts-de-France, a pour objectif de remédier à ces problèmes afin de rendre le graphène pratiquement insensible à son environnement. Elle est constituée de deux grandes parties : (i) Le transfert par exfoliation électrochimique (transfert humide) des monocristaux de graphène millimétriques (~5mm) synthétisés par CVD ainsi que leur caractérisation physique et électrique ; cette étude est réalisée dans le cadre d’un programme d’échange entre l’IEMN et l’Université d’Irvine en Californie (Programme PUF-Partner University Funding-portant sur le développement de l’électronique flexible). (ii) La fabrication et la caractérisation d’hétérostructures hBN/Graphène/hBN par transfert sec de matériaux exfoliés. Bien que la méthode CVD (Chemical Vapor Deposition) ait permis récemment l’obtention de larges monocristaux de graphène ayant une très haute qualité sur cuivre ; le transfert vers un substrat SiO2 introduit généralement des défauts et des contaminations dans le graphène résultant en des dispositifs de basses performances. Une première partie du travail mené dans cette thèse a permis de développer et mettre au point au sein du laboratoire un système de transfert fiable du graphène CVD. La méthode utilisée est basée sur une approche d’exfoliation électrochimique exploitant l’effet des bulles générées à l’interface graphène/Cu. L’optimisation de cette approche nous a permis de transférer des cristaux de graphène en préservant leur qualité. Enfin, la caractérisation électrique de dispositifs fabriqués sur des cristaux de graphène a permis d’obtenir une résistance de contact relativement basse attestant de la bonne qualité du graphène transféré. Afin de limiter l’interaction du graphène avec son environnement et ainsi préserver sa haute mobilité, l’encapsulation par du nitrure de bore hexagonale hBN permet de satisfaire ce besoin. La croissance de grandes surfaces du hBN étant toujours un grand défi scientifique, l’exfoliation mécanique est une approche de synthèse nécessaire pour la réalisation de ces héterotructures de type Van der Waals. La seconde partie du travail mené dans cette thèse a permis de développer (de la conception à la réalisation) et de mettre en place au sein du laboratoire une plateforme de nano manipulation « Stamping Set-up » dédiée à l’empilement des matériaux 2D ainsi que le développement d’un procédé d’encapsulation du graphène par transfert sec. Différents échantillons ont été fabriqués avec succès en utilisant du graphène monocouche et bicouche. Les caractérisations morphologiques et structurelles ont permis de montrer que le graphène après encapsulation présente de très faibles valeurs de dopage et de variations de contraintes à l’échelle nanométrique. Ce qui promet des valeurs de mobilité élevées. Ces travaux fournissent une voie vers l’obtention de graphène de grande qualité qui constitue une brique essentielle pour le développement de dispositifs électroniques à base d’hétérostructures de matériaux 2D.