Auteur / Autrice : | Sylvain Beaurepaire |
Direction : | Ahmad Bsiesy |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Nanoélectronique et nanotechnologie |
Date : | Soutenance le 11/10/2019 |
Etablissement(s) : | Université Grenoble Alpes (ComUE) |
Ecole(s) doctorale(s) : | École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble ; 199.-....) |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble) |
Jury : | Président / Présidente : Alain Sylvestre |
Examinateurs / Examinatrices : Chloé Guérin, Vincent Jousseaume | |
Rapporteurs / Rapporteuses : Alain Bravaix, Antoine Goullet |
Résumé
L’utilisation de diélectriques à faible permittivité (low-k) devient nécessaire pour les intégrations de type 3D monolithiques, notamment comme couche diélectrique d’isolation susceptibles de tenir des budgets thermiques élevés (traitement à des températures > à 500°C). Les matériaux low-K «classiques » ne remplissent à priori pas ces spécifications. L’objectif principal de la thèse est de développer et d’étudier de nouveaux matériaux low-k possédant de meilleures stabilités en température. En parallèle, une étude approfondie sera conduite sur l’évolution de défauts (liaisons pendantes, liaisons fortement polarisables, …) suite au traitement thermique. En effet, ces défauts jouent un rôle important dans les caractéristiques électriques du matériau (courant de fuite, fiabilité). Des techniques d’élaboration de matériaux seront mises en œuvre ainsi qu’un ensemble de moyens d’analyses physico-chimiques (ellipsométrie, XRR, FTIR).