Thèse soutenue

Effet de recuits thermiques sur des diélectriques à faible permittivité pour des applications Back-End-of-Line intermédiaire en vue d'une intégration 3D séquentielle
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Auteur / Autrice : Sylvain Beaurepaire
Direction : Ahmad Bsiesy
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Nanoélectronique et nanotechnologie
Date : Soutenance le 11/10/2019
Etablissement(s) : Université Grenoble Alpes (ComUE)
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble ; 199.-....)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble)
Jury : Président / Présidente : Alain Sylvestre
Examinateurs / Examinatrices : Chloé Guérin, Vincent Jousseaume
Rapporteurs / Rapporteuses : Alain Bravaix, Antoine Goullet

Résumé

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L’utilisation de diélectriques à faible permittivité (low-k) devient nécessaire pour les intégrations de type 3D monolithiques, notamment comme couche diélectrique d’isolation susceptibles de tenir des budgets thermiques élevés (traitement à des températures > à 500°C). Les matériaux low-K «classiques » ne remplissent à priori pas ces spécifications. L’objectif principal de la thèse est de développer et d’étudier de nouveaux matériaux low-k possédant de meilleures stabilités en température. En parallèle, une étude approfondie sera conduite sur l’évolution de défauts (liaisons pendantes, liaisons fortement polarisables, …) suite au traitement thermique. En effet, ces défauts jouent un rôle important dans les caractéristiques électriques du matériau (courant de fuite, fiabilité). Des techniques d’élaboration de matériaux seront mises en œuvre ainsi qu’un ensemble de moyens d’analyses physico-chimiques (ellipsométrie, XRR, FTIR).