Thèse soutenue

Nouvelle méthode de passivation de photodiode CdHgTe et amélioration de la compréhension de l’influence du procédé sur les performances électro-optiques

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Auteur / Autrice : Ségolène Lienard
Direction : Christophe ValléeDiane Sam-GiaoAlexandre KerlainFrançois Boulard
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Nanoélectronique et nanotechnologie
Date : Soutenance le 05/07/2017
Etablissement(s) : Université Grenoble Alpes (ComUE)
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble ; 199.-....)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Laboratoire d'électronique et de technologie de l'information (Grenoble ; 1967-....)
Jury : Président / Présidente : Pierre-Yves Tessier
Examinateurs / Examinatrices : Alexandre Kerlain, Maurice Quillec
Rapporteur / Rapporteuse : Pierre-Yves Tessier, Maurice Quillec

Résumé

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Les propriétés de l’alliage CdHgTe en font le semiconducteur de référence pour la détection InfraRouge (IR) très haute performance. Cependant, le refroidissement des plans focaux IR représente une limite importante dans l’utilisation, l’encombrement et le coût de tels détecteurs. La problématique de l’augmentation de la température de fonctionnement est un enjeu concurrentiel extrêmement fort. A haute température, un des phénomènes limitant les imageurs quantiques est l’apparition de bruit basse fréquence. L’identification de son origine, volume ou surface du CdHgTe, en lien avec les procédés d’élaborations des plans focaux, est au cœur des travaux des acteurs mondiaux de référence, dont le LETI et SOFRADIR font partie. La thèse étudie les procédés de réalisation de la passivation de la couche active de CdHgTe. L’approche consiste à caractériser les couches de passivation tant sur les aspects physico-chimique qu’électrique, à développer une nouvelle technique de dépôt, et à valider la démarche sur composant d’étude. Un premier volet a consisté à analyser ces couches minces d’un point de vue optique par ellipsométrie, physico-chimique en étudiant la contamination par spectrométrie de masse d’ions secondaires et la stœchiométrie par spectrométrie de photoélectron X résolue en angle, structural en étudiant la morphologie des couches par microscopie electronique, mécanique en caractérisant la contrainte, et électrique par étude capacité-tension de structures métal-isolant-métal et métal-isolant-semiconducteur. Cette étude a permis d’établir des corrélations entre les différentes caractéristiques des couches, notamment le lien entre l’évolution de la contrainte, les conditions de dépôt, la contamination et la microstructure. Une seconde partie a permis d’étudier une technique alternative de dépôt physique et d’étudier son impact sur les caractéristiques des couches minces. Un bilan des différences entre les techniques alternatives et de référence a été dressé. Un protocole d’amélioration du procédé de dépôt et un ensemble de véhicules de test est proposé à l’issue de cette étude. Ces couches ont ensuite été intégrées dans un lot de validation. Le test des performances électro-optiques sur composants à haute température de fonctionnement montrent des résultats à l’état de l’art. La qualité des couches de passivation obtenues par la technique alternative semble efficace en vue de limiter le bruit basse fréquence des imageurs. Cependant, il reste à montrer la reproductibilité de ces résultats et à améliorer l’intégration des couches minces dans le procédé.