Thèse soutenue

Métrologie des dimensions critiques : scatterométrie et développements avancés
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Auteur / Autrice : Alexandre Vauselle
Direction : Carole Deumié-RaviolGaëlle Georges
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Optique, photonique et traitement d’image
Date : Soutenance le 19/12/2013
Etablissement(s) : Aix-Marseille
Ecole(s) doctorale(s) : Ecole Doctorale Physique et Sciences de la Matière (Marseille)
Jury : Président / Présidente : Frédéric Lalande
Rapporteurs / Rapporteuses : Isabelle Schanen Duport, Jean-Marc Frigerio

Mots clés

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Mots clés contrôlés

Résumé

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L’industrie des nanotechnologies est un monde en constante évolution. Les améliorations dans les techniques de fabrication permettent de définir des composants de plus en plus petits. Afin de vérifier les dimensions fabriquées, la métrologie doit s’adapter et être capable de fournir des analyses basées sur des mesures optiques fiables et répétables. Ces travaux se focalisent dans un premier temps sur les procédés de fabrication des échantillons. Les techniques de dépôts, de photolithographies et de gravure sont présentées. Ces techniques nécessitent des outils de métrologie adaptés permettant un contrôle en ligne. Les équipements de métrologie disponibles sont donc présentés en se focalisant sur les techniques par imagerie comme la microscopie électronique à balayage ou transmission et les techniques par inversion telle que l’ellipsométrie et la scatterometrie. Le troisième chapitre est dédié aux applications de ces techniques en production. Les empilements étudiés sont généralement constitués de couches innovantes. La dernière partie est axée sur des méthodes de caractérisation de la rugosité par diffusion lumineuse sur des réseaux périodiques.