Développement d'une technique de caractérisation optique appliquée au suivi in situ de la croissance d'oxydes fonctionnels par ablation laser pulsé
Auteur / Autrice : | David Esteve |
Direction : | Philippe Lecoeur |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Physique |
Date : | Soutenance en 2010 |
Etablissement(s) : | Paris 11 |
Ecole(s) doctorale(s) : | Ecole doctorale Sciences et Technologies de l'Information, des Télécommunications et des Systèmes (Orsay, Essonne2000-2015) |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Institut d'électronique fondamentale (Orsay, Essonne ; 19..-2016) |
Entreprise : ASTEMEC (Ecquevilly, Yvelines) | |
Autre partenaire : Université de Paris-Sud. Faculté des sciences d'Orsay (Essonne) | |
Jury : | Président / Présidente : Claude Pasquier |
Examinateurs / Examinatrices : Philippe Lecoeur, Claude Pasquier, Niels Keller, Jean-Pierre Locquet, Jérôme Wolfman, François Fournier | |
Rapporteur / Rapporteuse : Niels Keller, Jean-Pierre Locquet |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Une instrumentation optique entièrement statique permettant le suivi in situ de la croissance d'oxydes fonctionnels par ablation laser pulsé, est présenté. Au travers de l'étude de deux système modèles, que sont la croissance de films minces de La₀. ₆₇Sr₀. ₃₃LMnO₃ sur des pseudo-substrats de SrTiO₃/Si et de couches minces de SrRuO₃ déposées sur des substrats de SrTiO₃ vicinaux, le dispositif proposé permet d'obtenir une précision de mesure sur les épaisseurs de l'ordre de la maille atomique (4Å), d'extraire les paramètres physiques de diffusion des espèces en surface (énergie d'activation de diffusion), mais aussi d'observer et d'identifier les modes de croissance. Ces résultats sont en parfait accord avec la simulation numérique développée, reposant sur des modèles de traitement de réflectivité de systèmes multi couches combiné avec la théorie des milieux effectifs.