Conception, modélisation, développement et application d'un phototraceur massivement parallèle pour l'écriture directe de structures submicroniques
Auteur / Autrice : | Mélanie Kessels |
Direction : | Jean-Louis de Bougrenet de la Tocnaye |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences pour l'ingénieur |
Date : | Soutenance en 2008 |
Etablissement(s) : | Télécom Bretagne |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Ce travail de thèse s'est inscrit dans un continuum de recherche et de développement de la photoinscription directe massivement parallèle à TELECOM Bretagne. Grâce à un masque reconfigurable en temps réel, les phototraceurs massivement parallèles combinent la rapidité de la photolithographie par projection et la flexibilité intrinsèque du modulateur spatial de lumière. Une simulation numérique du processus d'écriture du phototraceur existant à TELECOM Bretagne, dont le masque reconfigurable est un micro-écran à cristaux liquides (LCD), a permis de développer deux techniques de correction de l'effet dit de proximité. La première consiste `a modifier les dimensions et à ajouter des excroissances à la figure initiale. La seconde, plus innovante et uniquement exploitable avec un phototraceur à d'écriture directe, précompense les structures grâce à la modulation spatiale multiniveau de l'énergie de la distribution lumineuse. Pour améliorer la résolution des structures fabriquées, mais également pour étendre l'écriture directe à d'autres matériaux photosensibles aux propriétés optiques intéressantes, un nouveau phototraceur dont le masque programmable est une matrice de micro-miroirs (DMD) de chez Texas Instruments Inc. A été conçu, assemblé et mis au point. Grâce aux qualités intrinsèques du phototraceur à DMD, des éléments de nature binaire et à multiniveaux ont été fabriqués tels que des masques de chrome, des hologrammes synthétisés par ordinateur (HSO) à 2, 4 et 8 niveaux de phase, ainsi que des guides d'onde optique planaires avec un adapteur de mode et/ou un réseau de Bragg. La dimension critique des structures fabriquées atteint les 1,3 ?m et la vitesse de phototraçage avoisine les 500 mm2/h. Une première étude a également démontré que la photoinscription directe dans le matériau sol-gel hybride OrmocerR est non seulement réalisable mais ouvre une autre voie pour la fabrication de guides d'onde planaires opérationnels. Finalement une approche technologique originale consistant à combiner la polymérisation par deux photons avec le phototraçage à l'aide d'un DMD apparaît envisageable suite aux premiers tests réalisés à Laser Zentrum Hannover (Allemagne). .