Etude des propriétés et des mécanismes de mise en forme des résines photolithographiques pour une application capteurs d'images CMOS avancés

Study of the properties and the mechanisms of formation of photoresists for advanced CMOS image sensors application

• Auteur / Autrice : Stéphanie Audran
• Direction : Georges Hadziioannou
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Sciences de l'Ingénieur. Chimie des matériaux
• Date : Soutenance en 2007
• Etablissement(s) : Université Louis Pasteur (Strasbourg) (1971-2008)

Mots clés

Mots clés contrôlés

Photolithographie

Résines photosensibles

Capteurs (technologie)

Résumé

Cette étude porte sur les propriétés et les mécanismes de mise en forme des résines photolithographiques utilisées pour la fabrication des filtres colorés et des microlentilles des capteurs d’images CMOS. Au cours de cette thèse, l’étude comparative des résines pigmentées et des résines à colorants a permis de montrer la supériorité de ces dernières en terme de défectivité, de rugosité et de dégazage. Cependant leur utilisation dans les futures générations de capteurs semble être compromise, à court terme, en raison de leur faible stabilité à la température et à la lumière. Concernant les microlentilles, l’étude physico-chimique de la résine a permis de mettre en évidence la compétition entre la réticulation de la résine et sa mise en forme sous l’effet des tensions de surface lors du recuit. Nous avons ainsi pu montrer que le contrôle des cinétiques respectives de ces deux phénomènes jouait un rôle clef dans l’optimisation de la forme de la microlentille.