Élaboration par PACVD multifréquence de multi-nanocouche de a-SiC:H : protection d’alliage de titane contre l’usure pour applications aéronautiques

Deposition of a-SiC:H multi-nanolayer using multifrequency PACVD : protection of titanium alloy against friction wear for aeronautical applications

• Auteur / Autrice : Mickael Joinet
• Direction : Francis Teyssandier
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Sciences de l'ingénieur
• Date : Soutenance en 2007
• Etablissement(s) : Perpignan
• Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Énergie environnement (Perpignan ; 1999-....)

Mots clés

Mots clés contrôlés

Tribologie (technologie)

Titane -- Alliages

Couches minces

Carbure de silicium

Mots clés libres

Pacvd

Résumé

Les traitements anti-usure du substrat en alliage de titane Ti6Al4V représentent un enjeu pour l’industrie aéronautique. Pour ce faire, le dépôt dur de carbure de silicium amorphe hydrogéné possède des propriétés tribologiques (frottement et usure) performantes, mais la tenue à la fissuration et l’adhérence limitent son utilisation. Le réacteur du laboratoire PROMES permet de traiter « en continu » les surfaces en faisant appel aux technologies de dépôt sous vide et en particulier à la technique assistée par plasma la PACVD. La définition et l’optimisation de prétraitements de la surface du substrat et de nano-structuration du dépôt par le concept d’empilement a-SiC :H[HARD]/a-SiC :H[SOFT] permettent d’atteindre les objectifs fixés en termes de tenue mécanique et de performances tribologiques

Recently, hard a-SiC:H coatings, have received considerable attention for tribological applications, in particular in the aeronautical field where titanium alloys (Ti6Al4V) are widely used. This increase in tribological properties is often hindered by poor adhesion and cracking resistance of the coating. CNRS-PROMES Laboratory has developed a multi-frequency PACVD reactor. This device allows allows continuous in-situ treatments of the substrates. It has been used for the development of new high mechanical resistance Si:C:H based multi-nanolayers