Optimisation des propriétés spectroscopiques de couches minces de Si/Sio2 : Nd3+ élaborées par pulvérisation magnétron réactive
Auteur / Autrice : | David Breard |
Direction : | Fabrice Gourbilleau |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Milieux denses et matériaux |
Date : | Soutenance en 2007 |
Etablissement(s) : | Caen |
Mots clés
Résumé
Des films minces de silice enrichie en nano-grains de silicium dopées aux ions Nd3+ ont été déposés par pulvérisation magnétron réactive. Leurs propriétés de photoluminescence ont été étudiées au regard de leur composition. La formation d’agglomérats de Nd2O3 aux fortes concentrations en Nd3+ diminue la PL. L’influence de la température et de la composition sur le temps de vie des ions Nd3+ a été étudiée. On a démontré l’existence de deux temps de vie : à basse temperature, la composante rapide a été attribuée aux agglomérats de Nd2O3 (~40 μs) et la composante lente aux ions Nd3+ libres (~240μs). L'augmentation de la concentration en Nd diminue chaque composante du temps de vie et l'activation thermique de défauts non radiatifs a peu d'effet sur l'intensité de PL des ions Nd3+. L'approche multicouche a été utilisée pour déterminer des paramètres physiques tels que la taille optimale des ng-Si et la distance d'interaction ng-Si- Nd3+. Des dispositifs ont été fabriqués et testés.