Contribution à la caractérisation des revêtements par inversion des courbes V (z)
Auteur / Autrice : | Loïc Vandevoorde |
Direction : | Mohamed Ourak |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Électronique |
Date : | Soutenance en 2006 |
Etablissement(s) : | Valenciennes |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
L'objectif de cette étude est de caractériser à l'aide de la méthode V(z) des revêtements en bronze d'aluminium Cu9. 5Al1Fe déposés à la torche plasma sur un substrat en acier bas carbone. La courbe V(z) est obtenue à partir du relevé de la tension électrique aux bornes d'un transducteur focalisé en fonction du déplacement (z), perpendiculairement à la surface de l'échantillon analysé. Le traitement d'inversion de la courbe V(z) permet d'obtenir le coefficient de réflexion R(Ө,f) de l'échantillon. La position des minima de R(Ө,f) peut être relié aux constantes élastiques ou à l'adhérence du revêtement. Dans le cas d'une couche déposée sur substrat, le calcul R(Ө,f) s'effectue à partir de la méthode récursive de Thomson-Haskell qui permet d'introduire différents niveaux d'adhérence entre les 2 milieux successifs, grâce à 2 constantes de raideur KL et KT de minimisation égale au carré de la différence entre le coefficient de réflexion mesuré et celui paramétré par les constantes élastiques ou les valeurs de KL et KT , l'optimisation est ensuite réalisée à partir de la méthode du simplexe. Les résultats expérimentaux ont permis de valider la méthode pour la détermination des constantes Cij de ces revêtements. Pour les échantillons présentant un défaut d'adhérence, les valeurs KL et KT trouvées sont de l'ordre de 1013 à 1014 Pa. M-1, alors qu'elles sont supéreures à 1015 Pa. M-1 pour les échantillons sains. Le classement des différents niveaux d'adhérence est comparé à la rugosité de la surface du substrat avant dépôt, et à la charge critique de fissuration à l'interface déterminée par indentation interfaciale