Thèse soutenue

Evolution des masques en lithographie optique : étude et application des masques à transition de phase

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Auteur / Autrice : Emilien Robert
Direction : Mireille CommandréDaniel Henry
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Optique, optoélectronique et micro-ondes
Date : Soutenance en 2006
Etablissement(s) : Grenoble INPG

Résumé

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La réduction de la taille élémentaire des motifs imprimable par procédé lithographique a été obtenue par le passé par la réduction de la longueur d'onde d'exposition combinée avec une augmentation de l'ouverture numérique. Cependant, les évolutions des outils lithographiques ont été dépassées par la course effrénée à la miniaturisation des circuits intégrés obligeant ainsi les lithographes à imprimer des motifs sub-longueur d'onde. Parallèlement, le coût des outils lithographiques s'est accru de manière exponentielle. Ainsi, les lithographes sont amenés à utiliser pleinement les capacités des outils lithographiques en repoussant sans cesse les limites d'impressions. Une des solutions envisagées depuis une dizaine d'années est l'évolution des masques permettant ainsi aux lithographes de moduler le faisceau lumineux incident non plus seulement en amplitude mais aussi en phase. Dans ce contexte, l'objectif de cette thèse se concentre essentiellement sur l'étude des masques à décalage de phase de type atténué à 100% de transmission. Au travers d'une approche théorique confIrmée par des expositions sur plaquette nous avons évalué le gain des performances acquises par l'utilisation de ces masques pour des lignes denses ainsi que l'ajout de techniques de double exposition