Films composites de nickel et de cuivre à base de graphite et PTFE, élaborés par la technique de dépôt chimique dynamique
Auteur / Autrice : | Hamid Omidvar |
Direction : | Guy Stremsdoerfer |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences. Génie des matériaux |
Date : | Soutenance en 2006 |
Etablissement(s) : | Ecully, Ecole centrale de Lyon |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Laboratoire de tribologie et dynamique des systèmes (Écully, Rhône ; 1970-) |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Le procédé de dépôt chimique dynamique est une technique nouvelle qui consiste à métalliser un substrat en projetant simultanément par un aérosol, 2 phases aqueuses dispersées ; l’une contenant un réducteur l’autre un ou plusieurs sels métalliques. Le mélange de ces deux solutions forme un film liquide thermodynamiquement instable. La réaction d’oxydo réduction se déclenche alors à la surface du substrat. Des films de nickel-bore ou de cuivre sont ainsi réalisés, à température ambiante. Ce travail montre la faisabilité d’élaborer par cette technique, des films composites de NiB, NiBP et de cuivre incorporant des micro ou nano particules de graphite ou de PTFE. Les résultats présentés dans ce mémoire concernent d’une part, les caractéristiques d’élaboration (composition des solutions, cinétique de croissance est de 6µmh-1…) de films composites NiB avec graphite ou PTFE, de ternaire NiBP avec graphite ou PTFE, et des films de cuivre-graphite et cuivre-PTFE. D’autre part, nous présentons les résultats concernant les taux d’incorporation des particules dans les matrices métalliques et qui peuvent atteindre, pour le graphite et le PTFE, respectivement, en moyenne 12% et 24%. Ces films fonctionnels possèdent des coefficients de frottement de l’ordre de 0. 1. Avec des films minces de 2µm d’épaisseur, il est possible de réaliser pour les films composites NiB et NiBP, des lubrifiants solides et,dans le cas d’un film composite de cuivre, un film fonctionnel anti-usure.