Thèse soutenue

Nouveaux substrats métalliques à texture biaxiale pour câbles supraconducteurs à haute température critique

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Auteur / Autrice : Antoine Girard
Direction : Jean-Louis Jorda
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Génie des matériaux
Date : Soutenance en 2006
Etablissement(s) : Chambéry

Mots clés

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Résumé

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Ce travail rend compte du dével0ppement de substrats à texture biaxiale pour les supraconducteursàa hautes températures critiques de seconde génération dit ''coated conductor''. Le substrat a été obtenu par un procédé de laminage recuit. Les matériaux utilisés sont des alliages industriels cu55ni44mn (constantan) et le cu70ni30. Comparativement au niw généralement utilisé, ces cupronickels sont non-magnétiques à 77 k et permettent donc des applications en ac ; ils sont en outre moins onéreux. Des essais sur des laminoirs différents, avec ou sans lubrification et en modifiant le taux d'écrouissage ont permis de mettre en évidence des effets de peau et d'optimiser le procédé de déformation. Les températures de recuit ont été choisies à la suite de caractérisations de texture avant et après le recuit ainsi que de mesures ln-situ par diffraction de rayons x durs durant la montée en température. Des laminages de 98% et des recuits entre 900°c et 950°c en atmosphère protectrice ont permis d'obtenir des rubans ayant une forte texture cubique: désorientations hors du plan (dt) de 5° et dans le plan de 8°. Une partie de la surface est cependant maclée (10%). Celle-ci entraîne localement de fortes désorientations. L'état de surface a été amélioré par l'utilisation de rouleaux polis miroirs, l'optimisation des conditions de recuit (atmosphère et durée du palier) ainsi que l'ajout d'une étape d'électropolissage. Des essais mécaniques et magnétiques ainsi qu'une étude d'oxydation ont été pratiqués pour vérifier le comportement du ruban dans les conditions d'utilisation et de réalisation du câble. Le dépôt d'une couche d'oxyde protectrice lzo, sur le substrat a été réalisé avec succès. Les conditions d'un prétraitement sous atmosphère sulfurée, nécessaire a une bonne épitaxie de la couche, ont été déterminées. Enfin des essais sur le développement d'un alliage a barrière de diffusion ln-situ cu-ni-y permettant de s' affranchir de la première couche tampon ont été menés