Étude d'un gaz bidimensionnel d'électrons dans des hétérostructures AlGaAs/GaAs par des mesures courant-tension et bruit basses fréquences en température
Auteur / Autrice : | Rachid Khlil |
Direction : | Abdelillah El Hdiy |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Physique |
Date : | Soutenance en 2005 |
Etablissement(s) : | Reims |
Mots clés
Résumé
Le travail de ce mémoire porte sur l’étude des propriétés de transport électrique dans un gaz bidimensionnel d’électrons dans des hétérostructures en AlGaAs/GaAs et sur la caractérisation par le bruit et ce, en polarisation et en température. L’étude a montré la bonne qualité des hétérostructures étudiées (forte augmentation de la mobilité μ qui passe de 3800. Cm2/V/s à 300 K à 1,84. 106 cm2/V/s à 4 K et faible diminution de la densité qui ne dépasse pas 34 % dans certains cas). Une homogénéité de la résistivité et de la résistance de contact Rc a été observée selon les directions cristallines. Cependant, pour les séries à faible densité, Rc révèle une dégradation du contact à basse température. Pour améliorer le contact, une structure en dentelle a été adoptée. Les mesures I-V ont montré une saturation pour des températures T<80 K et à faible champ électrique E≈5V/cm même en l’absence de grille. Cette saturation serait liée à l’effet Gunn et à la dispersion par alliage. L’étude du bruit a montré une irrégularité de son évolution en fonction de la température. Les différentes contributions (bruit thermique, bruit G-R et bruit en 1/f) ont été étudiées. L’évolution du bruit G-R en température a mis en évidence la présence de certains niveaux pièges avec des énergies d’activation comprises entre 33 meV et 318 meV. Quant au bruit en 1/f, son spectre a été ajusté par la formule empirique de Hooge (α/Nfγ). Les ordres de grandeur des deux paramètres α de Hooge et γ (α≈5. 10-4 et γ≈1) confirment le caractère en 1/f. Une linéarité entre Log(α) v. S Log(μ) avec une pente 1,7 (≈2) nous a permis d’adopter le modèle Δμ avec une domination de la dispersion par phonons et une faible contribution par impuretés.