Etude d'un procédé de dépôt de films de diamant nanocristallin par des plasmas micro-ondes de CH4/H2/Ar
Auteur / Autrice : | Francis Mohasseb |
Direction : | Khaled Hassouni |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences de l'ingénieur. Génie des procédés |
Date : | Soutenance en 2004 |
Etablissement(s) : | Paris 13 |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Ce travail distingue deux axes de recherche. Le premier porte sur l'optimisation des conditions de décharges garantissant l'obtention d'un plasma microonde de CH4/H2/Ar stable et permettant l'élaboration de films de diamant nanocristallin (DNC). Ce travail a été accompagné par des études de caractérisation des films élaborés en fonction des paramètres de contrôle du procédé. Nous avons ainsi montré la faisabilité de dispositifs à ondes acoustiques de surface sur une structure AlN/DNC/Si et de dépôt de DNC sur du Si3N4 pour des applications tribologiques. Le deuxième axe porte sur le développement d'un modèle permettant d'analyser la décharge et aider à l'interprétation des résultats de dépôt. Différents modèles tenant compte de la formation et du développement d'hydrocarbures aromatiques polycycliques et de suies ont été développés et ont permis de déterminer la composition gazeuse et les températures du plasma et les conditions favorisant une formation quantitative de HAP et de suies.