Synthèse par dépôt en couche mince, caractérisation et applications catalytiques de matériaux à base d'oxydes de vanadium, titane et silicium

• Auteur / Autrice : Jetta Keränen
• Direction : Aline Auroux
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Chimie des matériaux
• Date : Soutenance en 2003
• Etablissement(s) : Lyon 1

Mots clés

Mots clés contrôlés

Couches minces

Dépôt chimique en phase vapeur

Silice

Pentoxyde de vanadium

Oxyde de titane

Résumé

Le dépôt en couche mince ou '' atomic layer deposition '' (ALD), une technique basée sur des réactions gaz-solide, a été appliqué pour synthétiser des matériaux tels que V2O5/SiO2, V2O5/TiO2 et V2O5/TiO2/SiO2. Des solides homologues ont été préparés par imprégnation conventionnelle. Les catalyseurs ont été caractérisés par BET, DRX, XPS, RTP, microscopie électronique, spectroscopies IR, UV-vis, Raman, microcalorimétrie d'adsorption, et testés en réactions de déshydrogénation et d'oxydation sélective. La dispersion, la structure superficielle et la cristallinité de la phase active ont été fortement affectées par la méthode de préparation et la nature du support, en faveur des catalyseurs ALD. Le dépôt en phase gazeuse a permis d'améliorer la réductibilité des catalyseurs ainsi que d'obtenir des caractéristiques acido-basiques de surface et des propriétés catalytiques plus intéressantes, comparativement aux catalyseurs imprégnés.