Les couches minces de HfO2 : étude de leurs hétérogénéités d'indice de réfraction et de leur interface avec SiO2

• Auteur / Autrice : Gérald Theret
• Direction : Roland Madar
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Sciences et Génie des matériaux
• Date : Soutenance en 2001
• Etablissement(s) : Grenoble INPG

Mots clés

Mots clés libres

Physique

Etat condense

Structure electronique. Proprietes electriques. Magnetiques et optiques

Etude experimentale

Couche mince

Revetement optique

Interface solide solide

Compose mineral

Hafnium oxyde

Silicium oxyde

Indice refraction

Heterogeneite

Propriete optique

Defaut

Relation fabrication propriete

Evaporation

Absorption optique

Dependance temperature

Substrat

Hfo2

Hf o

Substrat sio 2

Résumé

La comprehension et la maitrise des defauts presents dans les couches minces utilisees en optique est un enjeu important pour l'amelioration des performances des composants optiques, tel que des antireflets ou des miroirs. L'oxyde d'hafnium (hfo 2), materiau couramment utilise pour ce type d'application, presente frequemment comme defaut des heterogeneites d'indice de refraction lorsqu'il est depose par evaporation. Il a ete montre que l'apparition de ces defauts est liee a la temperature de depot. Plus precisement, ils sont dus, selon les conditions, soit a une elevation de la temperature des substrats pendant les depots, soit a la cristallisation des couches. Le second defaut rencontre dans ce materiau est la repartition des absorptions dans l'epaisseur des depots. Elles sont localisees dans les cinquante premiers nanometres des couches de hfo 2.