Corrélation entre gravure et conductivité électrique dans le polyimide (PMDA-ODA) bombardé par un faisceau d'ions

Correlation between etching and electrical conductivity into polyimide bombarded with ion beam

• Auteur / Autrice : Bruno Mazière
• Direction : Jean-Pierre Moliton
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Science de la matière. Génie des procédés
• Date : Soutenance en 1997
• Etablissement(s) : Limoges
• Partenaire(s) de recherche : Autre partenaire : Université de Limoges. Faculté des sciences et techniques

Mots clés

Mots clés contrôlés

Ions -- Implantation

Conduction électrique

Surfaces (technologie)

Polyimides

Traitements de surface

Technique

Gravure

Résumé

Le bombardement de films de polyimide (13000 nm d'epaisseur) sur support metallique par des ions d'energie intermediaire (gamme des 100 kev) est mis en oeuvre afin : - d'effectuer de la gravure seche ; - d'augmenter la conductivite electrique. La gravure, dans les meilleures conditions, peut atteindre 1,6 microns de profondeur. La conductivite electrique, dans les conditions optimales, passe de 10#-#1#4 s. Cm#-#1 a 10#-#1 s. Cm#-#1. Le regime de conduction dans des bus a echelle millimetrique n'est ohmique que pour certaines conditions d'irradiation. L'ion n#+ est le plus performant, tant pour la gravure que pour la conductivite. L'effet est explique sur la base theorique des collisions (resonance de la fonction gama). L'ensemble des resultats montre que l'irradiation ne peut pas etre modelisee sur le principe classique de l'implantation. Un effet de desorption et de gelification se produit. Le mode de conduction electrique est identifie, et les parametres de description quantitativement evalues. La nature et l'epaisseur de la couche conductrice de surface sont decrites, notamment l'existence possible d'une couche graphitisee, a l'aide de methodes de caracterisation : sims, eels, xps.