Dépôt de films de nickel par plasma froid différé d'azote sur un copolymère d'acrylonitrile-butadiène-styrène

Deposition of nickel films by cold remote nitrogen plasma on an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer

• Auteur / Autrice : Anne Brocherieux-Vandenbosch
• Direction : Odile Dessaux
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Physique - Chimie
• Date : Soutenance en 1996
• Etablissement(s) : Lille 1

Mots clés

Mots clés contrôlés

Dépôt électrolytique

Métallisation

Copolymères

Résumé

L'objectif de cette étude est la mise au point d'un procédé de substitution à la galvanoplastie dont le but est de donner un caractère conducteur à la surface d'un copolymère d'acrylonitrile-butadiène-styrène (abs). Un film de nickel est déposé à température ambiante sur des substrats polymériques plans ou de forme complexe par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assiste par un plasma d'azote et à partir du nickel carbonyle. La zone de dépôt choisie est la post-décharge lointaine car l'extension en volume de cette zone réactive exempte d'ion, électron et rayonnement UV, déjà antérieurement mise à profit pour réaliser des réacteurs de plusieurs mètres cubes, laisse entrevoir la possibilité d'adaptation d'une telle méthode de métallisation à de plus grandes surfaces. L'examen du film déposé par xps a montré que sous la couche de contamination induite par l'exposition à l'air de l'échantillon, le dépôt est composé essentiellement de nickel métallique. D'autres éléments ont aussi été identifies tels que l'oxygène, l'azote ou le carbone mais en faible teneur.