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Thèse soutenue

Microstéréophotolithographie par masquage dynamique

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Auteur / Autrice : Arnaud Bertsch
Direction : Jean-Claude André
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Génie des procédés
Date : Soutenance en 1996
Etablissement(s) : Vandoeuvre-les-Nancy, INPL

Résumé

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Cette étude traite de la réalisation d'une nouvelle méthode de microstéréophotolithographie utilisant un écran à cristaux liquides comme masque dynamique. Elle s'inscrit dans l'optique d'une diversification des techniques de microfabrication susceptibles d'être utilisées pour la construction de composants mécaniques miniaturisés, ces dernières étant pour le moment limitées aux procédés dérivés des techniques d'usinage du silicium qui ne permettent pas la fabrication de pièces tridimensionnelles de grande complexité géométrique. Nous présentons le principe de fonctionnement d'un tel dispositif, son intérêt. L’utilisation d'un écran à cristaux liquides comme partie active du procédé impose le choix d'un système chimique photopolymérisable approprié, réagissant dans le domaine de longueurs d'onde visibles. Une modélisation simplifiée de l'effet du photoblanchiment et de la fluorescence de la résine utilisée permet d'évaluer l'incidence de ces phénomènes sur la résolution spatiale de la photopolymérisation. Une étude expérimentale de la résolution spatiale du dispositif réalisé permet de définir ses conditions de fonctionnement. L’application du procédé à la fabrication d'objets tridimensionnels de petites dimensions formés d'un grand nombre de couches de géométries complexes illustre ses potentialités dans le domaine des microtechniques