Modulation de la microdureté Vickers des couches minces électrolytiques de Ni-P

Variation in the vickers microhardness of thin ni-p electrolitical layer

• Auteur / Autrice : Larbi El Abdellaoui
• Direction : André Tosser-Roussey
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Electronique
• Date : Soutenance en 1994
• Etablissement(s) : Metz

Mots clés

Mots clés contrôlés

Verres métalliques

Dureté

Couches minces

Résumé

Dans un premier temps, nous avons repris des études expérimentales en utilisant des produits d'origine et de microdureté différentes et nous avons montré qu'elles confirmaient les études antérieures, ce qui établit la très bonne reproductibilité des procédures. Nous avons mis au point de nouveaux résultats technologiques relatifs au dépôt et à l'homogénéité des couches électrolytiques sur couches chimiques de même nature. Nous avons ensuite montré, dans le cas des couches électrolytiques, qu'il y a convergence de beaucoup de résultats expérimentaux avec des travaux antérieurs d'origines différentes mais avec quelques divergences limitées (évolution du pourcentage atomique en phosphore en fonction de la densité de courant). Enfin, nous avons effectué de nouvelles mesures de microdureté de l'alliage Ni-P électrolytique et procédé à des interprétations qualitatives en étudiant l'influence du substrat, de la densité de courant, du pourcentage en phosphore, de la température de recuit ainsi que l'effet de la modulation du courant pulse électrolytique en très basse fréquence (t. B. F. ) pendant la phase de préparation. Nous avons eu des difficultés à expliquer quelques phénomènes, par exemple l'évolution de la microdureté dans le domaine cristallisé, phénomène qui n'avait pas été perçu jusqu'ici par d'autres méthodes

This work is consecrated to the superficial Vickers microhardness of amorphous alloy Ni100-xPx prepared by an electrolitical way inspect with several physico-chemical parameters : current density, pulsing of electrolitical bath, power-weight ratio mass percentage (varying from 6% to 60%), atomic percentage (varying from 9% to 25%), doping saccharin, nature of substrate (copper, iron and chemical deposit Ni100-xPx prepared with insulating substrattum), room temperature and current modulation. The microhardness for film thincknes of about 25 um in the presence a load of 50 g takes high values (from 600 to 1100 Hv at T=20 °C); it increases with current density, mass and atomic percentage, saccharin mass and temperature ; an irreversible sudden increase in hardness the type of occur in the vicinity of values are obtained 280 °C : transition temperature from amorphous state to crystalline state. The microhardness depends on the type of substrate high for alloys deposited an amorphous substrates. The mechanical property of amorphous alloy of microhardness Ni100-xPx prepared by electrolitical procedure is consistent with electric and magnetic properties, previously studied; hence the microhardness seems to constitute a convenient procedure for caracterizing the electronic properties for planes substrates