Desorption d'ions negatifs a partir de surfaces bombardees par des electrons de tres basse energie

Negative ion desorption during very low energy electron impact on adsorbed molecules: an experimental study

• Auteur / Autrice : TING-DI WU
• Direction : Marc Bernheim
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Chimie
• Date : Soutenance en 1992
• Etablissement(s) : Paris 11

Résumé

Le montage optique assemble ici est destine a l'etude des interactions d'electrons de basse energie avec des couches adsorbees et la desorption d'ions negatifs. Il dirige sur des surfaces placees en ultra-vide des faisceaux electroniques de densite constante et d'energie ajustable et assure la collecte et l'analyse des ions negatifs desorbes. (i) un processus de desorption resonnante provoque d'intenses desorptions d'ions h# sur les surfaces d'aluminium, de magnesium ou de silicium couvertes de molecules de vapeur d'eau lorsque l'energie des electrons est voisine de 6,5 ev; cette desorption s'etablit des que le faisceau d'electrons arrive sur une surface fraichement preparee. Mais, sur ces surfaces, la desorption resonnante d'ions o# et oh# n'apparait qu'apres une transformation des couches adsorbees provoquee par un bombardement electronique applique plusieurs minutes. Le mecanisme de desorption resonnante est attribue a la dissociation d'un etat anti-liant voisine des processus attachements electroniques dissociatifs observes en phase gazeuse; (ii) sur d'autres metaux (ti, cr, w, ni) les desorptions resonnantes a tres basse energie restent peu detectables meme apres des bombardements electroniques prolonges. Ces bombardements prealables sont souvent indispensables pour provoquer une desorption d'ions o# a partir de molecules h#2o, co ou o#2 dans des collisions au-dela de 20 ev. Les caracteristiques de cette desorption dependent fortement du substrat et peu de l'adsorbat; (iii) des enregistrements complementaires d'intensite permettent de suivre les transformations des couches adsorbees operees par le bombardement electronique au travers des variations de travail de sortie et des modifications de rendement de retrodiffusion des electrons par la surface