Étude et caractérisation d'un dispositif à plasma microonde entretenu par des ondes de surface excitées le long d'un diélectrique plan : application au dépôt d'oxycarbure de silicium

A plane dielectric based surface wave discharge to sustain large plasma volumes : application to thin films oxysiliconcarbide deposition

• Auteur / Autrice : Olivier Friquet
• Direction : Jacques Bernard
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Physique
• Date : Soutenance en 1991
• Etablissement(s) : Toulouse, ENSAE

Mots clés

Mots clés contrôlés

Composites

Matériaux céramiques

Diélectriques

Ondes de surface

Plasmas microondes

Mots clés libres

Methyltrichlorosilane

Oxycarbure de silicium

Résumé

Cette thèse décrit la mise au point d'un réacteur à plasma microonde permettant le dépôt à basse température de couches minces d'oxycarbure de silicium (SICO) destinées au renforcement de matériaux céramiques composites. Le premier chapitre présente un dispositif original d'excitation par ondes de surfaces (ODS) le long d'un diélectrique plan. Le second chapitre, plus théorique, est consacré à l'établissement et à la résolution de l'équation de dispersion du mode de propagation des ODS. Une méthode de prise d'empreinte des ODS constitue un moyen de validation des résultats de calcul. Le troisième chapitre est consacré à la caractérisation électrique du plasma par sonde de Langmuir. Le quatrième et dernier chapitre traite l'étude des dépôts de SICO obtenus par décomposition du methyltrichlorosilane. Plusieurs techniques d'analyses chimiques complémentaires sont utilisées: ESCA, EELS, FTIR. Des études en température montrent que ce matériau présente un potentiel d'application intéressant dans le domaine des hautes températures.