Etude de la morphologie des couches minces de MgO utilisables en haute température

Study of mgo thin films morphology utilizable for high temperature

• Auteur / Autrice : Soloniaina Rakotomiraho
• Direction : EDMOND GROUBERT
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Sciences
• Date : Soutenance en 1990
• Etablissement(s) : Montpellier 2

Mots clés

Mots clés contrôlés

Réfractométrie

Microscopie électronique à balayage

Rayons X -- Diffraction

Microstructure (physique)

Métallographie

Métaux -- interfaces -- thèses

Température

Molybdène

Métaux réfractaires

Canons à électrons

Thermophorèse

Dépôt chimique en phase vapeur

Couches minces

Oxydes métalliques

Magnésium

Résumé

La morphologie des couches minces de mgo deposees par evaporation thermique reactive au canon a electrons depend fortement des parametres que sont la temperature du substrat ts et la pression d'oxygene po#2. La microstructure et la morphologie ont ete determinees par diffraction des rayons x, et par microscopie electronique a balayage. L'augmentation de la pression d'oxygene a pour effet global de reduire l'orientation preferentielle <111> au profit d'autres directions plus caracteristiques de la structure cristalline du mgo. L'augmentation de la temperature du substrat a 600#oc favorise la presence de la direction <222> et l'augmentation des dimensions des grains. Nous avons ainsi defini: 1) une morphologie colonnaire ouverte a ts faible; 2) une morphologie fibreuse fermee a moyenne ts; 3) et une morphologie dense a structure cristallisee a ts elevee. La caracterisation optique de ces morphologies se heurte a une double difficulte. Le calcul de l'indice de refraction a partir de la reflectivite exige un modele de structure. La non-stchiometrie a basse pression d'oxygene et de l'oxydation du substrat. Mo a haute temperature superposent leurs effets a ceux de la morphologie. Ceci rend difficile l'interpretation de l'evolution de l'indice de refraction en fonction des conditions de depot