Synthèse et étude de résines microlithographiques sensibles aux UV lointains et résistantes aux plasmas d'oxygène

Synthesis and study of silylated styrenic microlithographic resists sensitive to deep uv and resistant to oxygen plasmas

• Auteur / Autrice : Frédéric Bonfils
• Direction : SCHUE GIRAL
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Chimie des matériaux
• Date : Soutenance en 1990
• Etablissement(s) : Montpellier 2

Mots clés

Mots clés contrôlés

Plasmas (gaz ionisés)

Spectres ultraviolets

Rayonnement ultraviolet

Irradiation

Silicium -- Composés organiques

Gommes et résines synthétiques

Microlithographie

Circuits intégrés -- Masques

Résumé

Ce travail concerne la preparation et l'etude de nouvelles resines de masquage pour microlithographie sensibles aux uv lointains et developpables par voie seche. Ces resines renferment un homopolymere styrenique silicie et un sel de triarylsulfonium qui libere dans le milieu, au cours de sa photolyse, des especes acides qui provoquent l'acidolyse des liaisons o-si du polymere. L'etude par spectroscopie infra-rouge de la coupure des liaisons o-si en milieu solide et l'etude microlithographique des resines siliciees choisies ont permis de montrer la faisabilite d'un tel systeme et que l'on peut s'affranchir de certains phenomenes (vieillissement des solutions d'enduction, continuation des reactions de coupure dans les zones insolees et reticulation) qui risquent d'entrainer des problemes de reproductibilite. De telles resines presentent de tres bonnes sensibilites et une excellente resistance aux plasmas d'oxygene et devraient donc permettre l'obtention de resolutions submicroniques