Photodecomposition sensibilisee au mercure du monosilane (hg-photo-cvd) : application au depot en couches minces de silicium amorphe hydrogene (a-si : h)

Photodecomposition of monosilane sensibilized by mercury (hg-photo-cvd): application to the deposition of hydrogenated amorphous silicon thin films (a-si: h)

• Auteur / Autrice : BOKO AKA
• Direction : Paul Siffert
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Physique
• Date : Soutenance en 1989
• Etablissement(s) : Université Louis Pasteur (Strasbourg) (1971-2008)

Mots clés

Mots clés libres

Physique

Etat condense

Proprietes mecaniques et thermiques

Photosensibilisation

Couche mince

Etat amorphe

Impurete

Hydrogene|sec

Recuit thermique

Preparation

Conductivite electrique

Propriete optique

Depot chimique phase vapeur

Support

Temperature

Dispositif photovoltaique

Silicium|sub

Photosensitization

Thin film

Amorphous state

Impurity

Hydrogen

Thermal annealing

Preparation

Electrical conductivity

Optical properties

Chemical vapor deposition

Support

Temperature

Photovoltaic cell

Silicon

Résumé

L'etude fondamentale des parametres mis en jeu montre que la limitation de la quantite de cilane decompose et la formation importante d'hydrogene doivent etre associees a un mecanisme chimique en phase gazeuse et a la surface plutot qu'a la diminution de la transparence de la fenetre d'entree consecutive au depot du film si. Il est ainsi mis en evidence que la quantite relative de si depose est tres importante aux basses pressions et que la vitesse de depot peut etre accrue en operant a forte intensite lumineuse. La qualite des couches depend fortement des conditions de preparation, en particulier de la temperature du support. Les couches obtenues ont des proprietes essentielles pour la fabrication de dispositifs photovoltaiques et microelectroniques de dimensions reduites et a bon marche