Etude des phenomenes limitant les performances en lithographie optique avancee sur photorepeteurs

Study of limiting factors in advanced optical lithography using step and repeat aligners

• Auteur / Autrice : Alain Charles
• Direction : Augustin Martinez
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Micro-électronique
• Date : Soutenance en 1989
• Etablissement(s) : Toulouse, INSA

Mots clés

Mots clés libres

Electronique

Lithographie

Photolithographie

Photoresist

Photorepeteur

Alignement

Distorsion lineaire

Conception circuit

Circuit vlsi

Résumé

Le memoire traite des problemes rencontres lors de l'utilisation de photorepeteurs dans la fabrication des circuits vlsi. Une etude des performances de la lentille de projection est effectuee a l'aide d'une modelisation adequate et complete de la distorsion. Une nouvelle methode de mixage entre un photorepeteur et un scanner, utilisant le concept de signature, a permis d'en simplifier la procedure sans deteriorer les performances par rapport aux methodes employees classiquement. Des solutions simples testees, comme l'utilisation de marques d'alignement de geometrie particuliere, permettent de reduire sensiblement la dispersion. La realisation de geometries fines devient complexe sur substrats non plans et reflecteurs. Une etude utilisant une structure de test electrique a permis de comparer les performances obtenues avec deux resines photosensibles de caracteristiques differentes prealablement mesurees. L'interpretation des resultats est effectuee a l'aide de calculs theoriques et de simulations adaptees au procede en utilisant la methode des surfaces de reponse