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Thèse soutenue

Étude et mise au point d'un nouveau procédé de dépôt de vapeurs et d'ions métalliques

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Auteur / Autrice : Olivier de Gabriel
Direction : Jacques Menet
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Physique
Date : Soutenance en 1989
Etablissement(s) : Université Joseph Fourier (Grenoble ; 1971-2015)

Résumé

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Les procedes de traitement de surface par depot, qui permettent de modifier les proprietes de surface sans modifier celles du volume, connaissent un grand essor industriel. La description de ces procedes amene a considerer le role et l'importance que les plasma y jouent. La nouvelle source de plasma que nous avons mis au point a ete l'objet d'une etude experimentale qui est exposee. Cette source de plasma est la base du procede de depot que nous avons developpe (depot de vapeur et d'ions metalliques). La description et les resultats preliminaires permettent de comparer ce procede avec ceux existants. Les deux caracteristiques essentielles de ce procede sont la tres grande vitesse de depot et la tres bonne adherence