Contribution a l'etude des couches minces de monoxyde de silicium : modifications apportees par l'interface nickel-sio sur les proprietes de transport electrique dans les structures metal-sio-metal

Contribution to the study of silicon monoxyde thin films: changes on electrical transport properties of metal-sio-metal structures induced by the nickel electrode

• Auteur / Autrice : Thien-Phap Nguyen
• Direction : Serge Lefrant
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Sciences appliquées
• Date : Soutenance en 1987
• Etablissement(s) : Nantes

Mots clés

Mots clés libres

Sciences appliquees

Electronique

Structure mom

Silicium oxyde

Contact isolant semiconducteur

Spectrometrie

Propriete electrique

Conductivite electrique

Bruit fond

Siliciure

Couche mince

Silicium monoxyde

Mom structure

Silicon oxides

Semiconductor insulator contact

Spectrometry

Electrical properties

Electrical conductivity

Background noise

Silicides

Thin film

Silicium monoxide

Résumé

Etude des proprietes des couches minces obtenues par evaporation thermique de la poudre de monoxyde de silicium dans des conditions precises sous forme de structures symetriques al-sio-al ou dissymetriques al-sio-ni