Étude des interfaces métal noble-semiconducteur : cu/si(111) et au/si(111) par différentes techniques d'analyse de surface

Study of noble metal-semiconductor interfaces : cu/si (111) and au/si (111) by different surface sensitive techniques

• Auteur / Autrice : Gilles Mathieu
• Direction : Philippe Mathiez
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Sciences des matériaux
• Date : Soutenance en 1987
• Etablissement(s) : Aix-Marseille 2
• Partenaire(s) de recherche : Autre partenaire : Université d'Aix-Marseille II. Faculté des sciences (1969-2011)

Résumé

Etude experimentale par spectrometrie auger, diffraction d'electrons lents, spectrometrie de pertes d'energie d'electrons, photoemission directe et microscopie electronique en transmission. Analyse des proprietes electroniques pour le systeme cu/si dans le cas d'une monocouche deposee a chaud et a temperature ambiante. Etude de la microstructure de l'interface au/si (111) constituee par une matrice amorphe au/si contenant des microcristallites d'or pur. Caracterisation par microscopie par effet tunnel du systeme au/si (111)