Lithographie par auto assemblage d'origami d'ADN

par Marie Marmiesse

Projet de thèse en Nano electronique et nano technologies

Sous la direction de Raluca Tiron et de Maxime Argoud.

Thèses en préparation à l'Université Grenoble Alpes (ComUE) , dans le cadre de École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble) , en partenariat avec CEA/LETI (laboratoire) depuis le 01-10-2017 .


  • Résumé

    Les technologies de l'information de demain vont avoir besoin de structures de plus en plus complexes qui, dans une démarche logique de miniaturisation, combinent à la fois la haute résolution, la haute densité ainsi que le design complexe (formes arrondies, empilement 3D, etc.). Dans ce contexte et pour répondre aux futures exigences des technologies, des nouvelles techniques de patterning devront être envisagées. De par son gabarit nanométrique (diamètre de 2nm), sa propension à l'auto-assemblage, sa diversité structurale et les possibilités de fonctionnalisation, l'ADN constitue une brique de choix. Il offre notamment la possibilité de réaliser des architectures en 2D et en 3D, définies au nanomètre près. Cette thèse a pour objectif de démontrer la faisabilité de nano-structurer la surface d'un substrat en utilisant un masque en origami d'ADN. Il vise une résolution ultime de quelques nanomètres, une densité de motifs compatible avec des applications microelectroniques par exemple, mais aussi la réalisation de structures complexes auto-alignées. La partie technologique sera focalisée sur le positionnement déterministe des origamis et les procédés de gravure associés.

  • Titre traduit

    DNA origami based lithography


  • Résumé

    The nanoscience and nano technology development determine the continual device miniaturisation. Until now, lithography has been the main driving force of this process. Currently chemically amplified photo resists (CAR) for conventional 193nm immersion lithography applications, are used in manufacturing processes to pattern features with dimensions as small as 45nm to 65nm but may not be extendable as feature dimensions shrink to 32 nm and below. The main obstacle to improve resolution remains the inherent limitation of optical lithography and high cost of lithographic production tools. DNA origami based lithography have become of great interest for highresolution patterning due to of their facility, elegance and high throughput. Self-assembling materials used in conjunction with the most advanced exposure tools may enable extension of current manufacturing practices to dimensions of 10 nm and less. The CEA-LETI propose to implement a new nano-patterning hybrid process by combining conventional lithography and self-assembly of DNA origami. Several aspects will be addressed such as deterministic control of DNA origami by locally controlling the surface properties and pattern transfer into the under layer.