Thèse soutenue

Etude des optiques diffractives en imagerie infrarouge

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Auteur / Autrice : Céline Millet
Direction : Philippe Lalanne
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Physique. Optique et photonique
Date : Soutenance en 2008
Etablissement(s) : Paris 11
Partenaire(s) de recherche : autre partenaire : Université de Paris-Sud. Faculté des sciences d'Orsay (Essonne)

Mots clés

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Mots clés contrôlés

Mots clés libres

Résumé

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Dans cette thèse, nous avons étudié une famille d’éléments diffractifs innovants, composés de structures binaire sub-longueur d’onde, c’est-à-dire de taille légèrement inférieure à la longueur d’onde et qui permettent d’avoir une bonne efficacité de diffraction sur une large bande spectrale, ce qui est très utile en imagerie. Afin d’étudier l’efficacité des composants diffractifs utilisés en imagerie, nous avons développé un outil de modélisation, dit hybride car il combine une analyse scalaire des grandes zones de Fresnel composant l’élément diffractif, à un traitement vectoriel des microstructures qui les consistent. L‘outil permet de prédire et d’optimiser le comportement d’une structure diffractive conçue pour l’imagerie et composée de tous types de géométrie locale. Nous avons conçu et fabriqué un réseau blazé sub-longueur d’onde gravé dans un substrat d’Arséniure de Gallium. Le modèle hybride a permis d’établir une structure diffractive parfaite lors de l’étape de conception, mais aussi grâce à sa souplesse d’utilisation, d’introduire les effets de la fabrication dans le calcul de l’efficacité de diffraction. Pour évaluer les performances du composant fabriqué, nous avons mesuré son efficacité de diffraction transmise autour de l’ordre de blaze pour une incidence oblique à 10,6 μm et en incidence normale sur la bande spectral 2-17 μm. Cette étude expérimentale montre que la fabrication de tels composants aux propriétés uniques, est compatible avec des moyens technologiques bas-coût issus de l’industrie des semi-conducteurs, tels que la lithographie optique et la gravure ICP.