Nicolas Possémé
Nicolas Possémé a rédigé la thèse suivante :
Étude de l'intégration des matériaux à très faible permittivité diélectrique dans une structure damascène pour les filières technologiques CMOS
par Nicolas Possémé sous la direction de Olivier Pierre Etienne Joubert - Grenoble 1
Micro-électronique
Soutenue en 2005
Nicolas Possémé dirige actuellement les 5 thèses suivantes :
Développement de procédés de gravure plasma pour des applications Front End Of Line CMOS sub 10nm
par Valentin Bacquie sous la direction de Nicolas Possémé - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 01-10-2018
Gravure plasma des copolymères à bloc dit « High Chi »
par Maria Gusmao Cacho sous la direction de Nicolas Posseme et de Patricia Pimenta barros . - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 01-03-2018
Etude de la gravure plasma des empilements à base de GST pour les mémoires à changement de phases embarquées dans la technologie 28 nm
par Yann Canvel sous la direction de Nicolas Possémé - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 16-01-2017
Développement et compréhension de procédés gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm.
par Sana Rachidi sous la direction de Nicolas Posseme et de Alain Campo . - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 21-11-2016
Développement de procédés de gravure plasma pour des applications Front End Of Line CMOS sub 10nm
par Vincent Ah-Leung sous la direction de Nicolas Posseme et de Sébastien Barnola . - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 02-11-2015
Nicolas Possémé a dirigé les 7 thèses suivantes :
Développement et caractérisation de procédés de gravure des espaceurs Si3N4 et SiCO pour la technologie FDSOI 14nm.
par Maxime Garcia barros sous la direction de Nicolas Possémé - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 10-04-2018
Etude d’une lithographie ligne/espace innovante par auto-assemblage dirigé d’un copolymère à blocs pour la réalisation de dispositifs CMOS sub-20nm
par Guillaume Claveau sous la direction de Nicolas Possémé et de Maxime Argoud . - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 14-12-2017
Etude de procédés plasmas pour le retrait de résine implantée pour les filières CMOS et photonique
par Marion Croisy sous la direction de Nicolas Possémé et de Erwine Pargon . - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 14-12-2017
Développement d'un procédé de structuration 3D pour le silicium
par Lamia Nouri sous la direction de Nicolas Possémé - Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 11-12-2017
Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm
par Aurélien Sarrazin sous la direction de Christophe Cardinaud , Nicolas Possémé et de Patricia Pimenta-barros . - Nantes
Sciences et technologies de l'information et de la communication
Soutenue le 16-02-2017
Nouvelle technologie utilisant les plasmas H2 et He pour contrôler la gravure de couches ultraminces à l’échelle nanométrique
par Jérôme Dubois sous la direction de Gilles Cunge et de Nicolas Possémé . - Grenoble Alpes
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 18-11-2016
Etude de la gravure des contacts en présence d’un double masque pour les nœuds technologiques avancés
par Mokrane Mebarki sous la direction de Olivier Pierre Etienne Joubert , Maxime Darnon et de Nicolas Possémé . - Grenoble Alpes
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 11-05-2016
