"Auteur";"Identifiant auteur";"Titre";"Directeur de these";"Directeur de these (nom prenom)";"Identifiant directeur";"Etablissement de soutenance";"Identifiant etablissement";"Discipline";"Statut";"Date de premiere inscription en doctorat";"Date de soutenance";"Langue de la these";"Identifiant de la these";"Accessible en ligne";"Publication dans theses.fr";"Mise a jour dans theses.fr";
ABDELJALIL YASSFY;;Ellipsometrie spectroscopique. Application a la caracterisation de silicium poreux;Robert Cadoret;Cadoret Robert;091245362;Clermont-Ferrand 2;026403102;Physique;soutenue;;01-01-1996;fr;1996CLF21825;non;24-05-2013;03-02-2021;
Fabrice Piazza;077372360;Elaboration de films minces de carbone amorphe hydrogéné multifonctions par un procédé plasma utilisant une répartition uniforme de la résonance cyclotron électronique (DECR);Paul Montgomery;Montgomery Paul;071065229;Strasbourg 1;026404540;Physique;soutenue;;01-01-2001;fr;2001STR13213;non;13-04-2017;10-07-2020;
Abdelmjid El Ghemmaz;199121338;Contribution à l'étude des propriétés optiques des matériaux liquides par ellipsométrie spectroscopique;Roland Kleim;Kleim Roland;137722893;Metz;026403366;Physique;soutenue;;01-01-1996;fr;1996METZ043S;oui;03-03-2017;06-03-2020;
ALINE BRUNET BRUNEAU;;Etude de couches minces dielectriques par ellipsometrie spectroscopique visible et infrarouge;Josette Rivory;Rivory Josette;089579399;Paris 7;027542084;Physique;soutenue;;01-01-1996;fr;1996PA077304;non;24-05-2013;18-01-2021;
Alain Degiovanni;076729680;Etude de l'interface plomb-silicium(111) par ellipsométrie spectroscopique;Gilbert Quentel;Quentel Gilbert;079359930;Aix-Marseille 3;026403153;Sciences des matériaux;soutenue;;01-01-1989;fr;1989AIX30029;non;24-05-2013;16-02-2021;
Gang Jin;078861675;Ellipsometrie dynamique sous perturbation modulee ou impulsionnelle;Albert-Claude Boccara;Boccara Albert-Claude;070425507;Paris 6;027787087;Physique;soutenue;;01-01-1993;fr;1993PA066125;non;24-05-2013;27-01-2021;
Fadila Larbi;183374932;Traitement de couches minces et de dispositifs à base de a-Si : H par un plasma d'hydrogène : Etude in situ par ellipsométrie spectroscopique.;Aomar Hadjadj;Hadjadj Aomar;094844186;Reims;026403838;Sciences IFTS - STS;soutenue;;09-03-2014;fr;2014REIMS010;oui;06-05-2013;02-06-2017;
Jean-Philippe Piel;057116423;Caracterisation de structures mis par methodes electriques et par ellipsometrie spectroscopique : application au transistor a effet de champ sur inp;André Fortini;Fortini André;150722737;Caen;026403064;Sciences appliquées;soutenue;;01-01-1987;fr;1987CAEN2031;non;24-05-2013;16-02-2021;
STEPHANE COLARD;;Ellipsometrie spectroscopique ex situ a plusieurs angles d'incidence : caracterisation de couches massives et de structures multicouches;Joël Leymarie;Leymarie Joël;138481946;Clermont-Ferrand 2;026403102;Physique;soutenue;;01-01-1998;fr;1998CLF22070;non;24-05-2013;03-02-2021;
Aotmane En Naciri;116049391;Ellipsométrie spectroscopique conventionnelle et généralisée de milieux anisotropes : application à l'étude des propriétés optiques de l'iodure mercurique (HgI2);Roland Kleim;Kleim Roland;137722893;Metz;026403366;Physique;soutenue;;01-01-1999;fr;1999METZ013S;oui;24-05-2013;11-07-2020;
Aurélie Clair;160545420;Caractérisation expérimentale des propriétés micromécaniques et micromorphologiques des alliages base nickel contraints par la croissance d'une couche d'oxydes formée dans le milieu primaire d'une centrale nucléaire;Eric Finot;Finot Eric;07127569X;Dijon;02819005X;Physique;soutenue;;30-11-2011;fr;2011DIJOS047;oui;10-05-2012;09-09-2017;
Al-Saleh Keita;165633271;Etude par ellipsométrie spectroscopique des effets de taille sur les propriétés optiques de couches composites à matrice diélectrique et du silicium nanostructuré;Aotmane En Naciri,Francis Dujardin;En Naciri Aotmane,Dujardin Francis;116049391,061333352;Université de Lorraine;157040569;Physique;soutenue;;03-05-2012;fr;2012LORR0051;oui;14-12-2012;27-08-2020;
Ingrid Stenger;115327169;Etude des propriétés optiques de nanoparticules de silicium et de leur interface avec une matrice de silice par ellipsométrie et spectroscopie de déflexion photothermique;Josette Rivory,Bruno Gallas;Rivory Josette,Gallas Bruno;089579399,115326987;Paris 6;027787087;Optique et photonique;soutenue;;01-01-2006;fr;2006PA066411;non;24-05-2013;19-01-2021;
Marc Juvin;088403955;Elaboration et exploitation d'un banc d'ellipsométrie à longueur d'onde variable, pour l'étude et la caractérisation de capacités MIS sur composés III-V;Jacques Joseph;Joseph Jacques;088404439;Lyon 1;026402823;Sciences. Electronique;soutenue;;01-01-1985;fr;1985LYO19035;non;01-04-2015;14-11-2016;
ANNE-MARIE ANTOINE;;Mecanismes de croissance et de constitution d'interfaces dans les couches minces de semiconducteurs amorphes hydrogenes etudies par ellipsometrie spectroscopique in situ;Bernard Drévillon;Drévillon Bernard;052466957;Paris 7;027542084;Physique;soutenue;;01-01-1987;fr;1987PA077179;non;24-05-2013;11-02-2021;
Mickaël, Christophe, Patrick Gilliot;116048786;Caractérisation de couches minces nanostructurées par ellipsométrie spectroscopique : application aux propriétés optiques isotropes et anisotropes de nanoparticules sphériques et ovoïdes de cobalt;Luc Johann;Johann Luc;113169531;Metz;026403366;Physique de la matière et des matériaux;soutenue;;01-01-2006;fr;2006METZ030S;oui;24-05-2013;12-07-2020;
Edgar Davy Loutete-Dangui;143864041;Etude par ellipsométrie spectroscopique de transitions thermo-induites du premier ordre dans les solides bistables à transition de spin et analogues du bleu de Prusse;Kamel Boukheddaden;Boukheddaden Kamel;143864645;Versailles-St Quentin en Yvelines;03082057X;Physique;soutenue;;01-01-2008;fr;2008VERS0029;non;24-05-2013;12-07-2020;
Boris Lecourt;;Ellipsométrie spectroscopique conventionnelle et généralisée de films moléculaires ultraminces : bases théoriques et instrumentales, application à l'étude de films Langmuir-Blodgett et de films autosupportés;Jean-Marie Turlet;Turlet Jean-Marie;063766981;Bordeaux 1;027548341;Instrumentation et mesures;soutenue;;01-01-1998;fr;1998BOR10580;non;24-05-2013;01-09-2020;
Younès EL YOUNOUSSI;;Ellipsometrie cinetique sur substrats inp dans un reacteur h. V. P. E. Realisation d'un ellipsometre spectroscopique pour la caracterisation des heterostructures;Robert Cadoret;Cadoret Robert;091245362;Clermont-Ferrand 2;026403102;Physique;soutenue;;01-01-1991;fr;1991CLF21300;non;24-05-2013;03-02-2021;
NACER LAYADI;;Croissance de couches minces de silicium amorphe et microcristallin preparees par methodes plasmas et traitement laser : etude in-situ par ellipsometrie spectroscopique;Pere Roca i Cabarrocas;Roca i Cabarrocas Pere;034125663;Palaiseau, Ecole polytechnique;027309320;Physique;soutenue;;01-01-1994;fr;1994EPXX0034;non;24-05-2013;18-01-2021;
STEPHANE CHARNET;;Croissance et proprietes d'emission dans le visible de nanograins de silicium dans une matrice de silice : analyse par ellipsometrie spectroscopique;Richard Rizk;Rizk Richard;075008335;Caen;026403064;Physique;soutenue;;01-01-1999;fr;1999CAEN2023;non;24-05-2013;21-01-2021;
DAVID SOUCHE;;Etude par ellipsometrie spectroscopique et photoemission x de la morphologie de couches minces dielectriques obtenues par evaporation assistee par faisceau d'ions;Josette Rivory;Rivory Josette;089579399;Paris 6;027787087;Physique;soutenue;;01-01-1997;fr;1997PA066729;non;24-05-2013;27-01-2021;
Guillaume Legay;110461924;Analyse locale des sensibilités des lectures angulaires, spectroscopiques et ellipsométriques de la résonance des plasmons de surface en vue de la miniaturisation des biocapteurs optiques;Alain Dereux,Eric Finot;Dereux Alain,Finot Eric;068954980,07127569X;Dijon;02819005X;Physique;soutenue;;01-01-2006;fr;2006DIJOS021;non;24-05-2013;16-07-2020;
Bichr Skheyta;114501378;Caractérisation d'oxydes de sicilium par spectroellipsométrie et par gravure chimique;Alain Gagnaire;Gagnaire Alain;03110441X;Ecully, Ecole centrale de Lyon;033894221;Sciences. Dispositifs de l'électronique intégrée;soutenue;;01-01-1993;fr;1993ECDL0031;non;24-05-2013;01-05-2019;
Khalil Zeaiter;;Caractérisation des quaternaires CuIn (SxSe1-x)2, Cu(GayIn1-y)3Se5 et CuIn3(SzSe1-z)5, par ellipsométrie spectroscopique et photoluminescence pour application photovoltai͏̈que;Claude Llinares;Llinares Claude;069833931;Montpellier 2;026404214;Milieux denses et matériaux;soutenue;;01-01-1999;fr;1999MON20071;non;24-05-2013;15-07-2020;
Sutrisno;;Réalisation d'un ellipsomètre spectroscopique à modulation de phase : calibrages, tests et applications en microélectronique;Claude Llinares;Llinares Claude;069833931;Montpellier 2;026404214;Composants, signaux et systèmes;soutenue;;01-01-1992;fr;1992MON20026;non;24-05-2013;06-03-2020;
Nathalie Démarest;178329134;Développement d'empilements métalo-diélectriques pour des applications optiques : conception, réalisation et caractérisation;Fabien Grasset;Grasset Fabien;142536318;Rennes 1;02778715X;Sciences des matériaux;soutenue;;12-12-2013;fr;2013REN1S160;oui;17-05-2014;13-06-2020;
Marie-Laure Hidalgo;;Conception et étude d'un ellipsomètre spectroscopique à analyseur tournant : Comparaison avec un ellipsomètre spectroscopique à modulation de phase : Applications à la microélectronique;Claude Llinares;Llinares Claude;069833931;Montpellier 2;026404214;Electronique, optronique et systèmes;soutenue;;01-01-1996;fr;1996MON20172;non;24-05-2013;06-03-2020;
Ngoc Long Do;172197422;Etude de l'oxydation thermique du titane et du zirconium sous irradiation aux ions d'argon dans le domaine du MeV (E ≤ 15 MeV);Dominique Gorce-Pomonti;Gorce-Pomonti Dominique;172197961;Palaiseau, Ecole polytechnique;027309320;Physique;soutenue;;01-01-2012;fr;2012EPXX0078;oui;09-10-2013;15-07-2020;
Benoit Vandelle;073662801;Formation de couches minces de semi-conducteurs et contrôle intégré dans une machine mono-plaque, multi-chambres 300 mm;Gérard Guillot;Guillot Gérard;069003785;Lyon, INSA;052444724;Dispositifs de l’électronique intégrée;soutenue;;01-01-2002;fr;2002ISAL0113;non;24-05-2013;15-07-2020;
MURIEL FIRON;;Caracterisation par ellipsometrie uv. Vis. Et spectroscopie infrarouge de films amorphes : les oxynitrures de silicium;Christiane Bonnelle;Bonnelle Christiane;075195720;Paris 6;027787087;Physique;soutenue;;01-01-1994;fr;1994PA066122;non;24-05-2013;28-01-2021;
Yao-Hua Yang;;Croissance du silicium polycristallin à basse température assistée par laser excimère : caractérisation in-situ par ellipsométrie;Jean-Claude Joubert;Joubert Jean-Claude;223848212;Grenoble INPG;026388804;Sciences des matériaux;soutenue;;01-01-1987;fr;1987INPG0139;non;21-07-2017;10-09-2020;
Jessica Bousquet;191708143;Propriétés optiques et électroniques du diamant fortement dopé au bore;Etienne Bustarret,Thierry Klein;Bustarret Etienne,Klein Thierry;112520154,077915488;Université Grenoble Alpes (ComUE);184668794;Nanophysique;soutenue;;01-07-2015;fr;2015GREAY047;oui;15-05-2020;26-05-2020;
Marc Rommelfangen;15175201X;Elaboration électrochimique et caractérisation ellipsométrique de matrices d'alumine : application à l'électroformage de nanofils de Bi2Te3;Jean-Marie Lecuire;Lecuire Jean-Marie;082837805;Metz;026403366;Electrochimie;soutenue;;01-01-2000;fr;2000METZ045S;oui;24-05-2013;11-07-2020;
Keltoume Belalia;;Ellipsométrie spectroscopique à modulation de phase : construction de l'appareillage et application à la caractérisation des substrats Si et GaSb et des couches d'oxydes déposées sur ces substrats;Claude Llinares;Llinares Claude;069833931;Montpellier 2;026404214;Composants, signaux et systèmes. Composants électroniques et optiques;soutenue;;01-01-1991;fr;1991MON20247;non;24-05-2013;06-03-2020;
Michel Luttmann;;Ellipsométrie spectroscopique à angle variable : applications à l'étude des propriétés optiques de semi-conducteurs II-VI et à la caractérisation de couches à gradient d'indice;Roland Kleim;Kleim Roland;137722893;Grenoble 1;026404796;Physique;soutenue;;01-01-1994;fr;1994GRE10232;non;24-05-2013;09-09-2020;
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Roelene Botha;131812130;Dépôt de couches minces par plasma haute densité à basse pression : influence de l'injection de silane sur la cinétique du dépôt et les propriétés de la silice;Bernard Drévillon;Drévillon Bernard;052466957;Palaiseau, Ecole polytechnique;027309320;Physique;soutenue;;01-01-2008;fr;2008EPXX0019;non;24-05-2013;15-07-2020;
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Ismail El Kalioubi;188799397;Développement de la technique de scattérométrie neuronale dynamique;Cécile Gourgon,Maxime Besacier,Stéphane Robert;Gourgon Cécile,Besacier Maxime,Robert Stéphane;15877101X,059913606,077187717;Université Grenoble Alpes (ComUE);184668794;Nanoélectronique et nanotechnologie;soutenue;;03-06-2015;fr;2015GREAT033;oui;15-05-2020;26-05-2020;
Hassane gogo Ahmat idriss;24282773X;Développement d'un banc ellipsométrique hyperfréquence pour la caractérisation de l'anisotropie des indices;Bernard Bayard;Bayard Bernard;060454253;Lyon;190915757;Optique Photonique Hyperfréquence;soutenue;;11-07-2017;fr;2017LYSES021;oui;04-03-2015;11-03-2020;
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Anna Fontcuberta i Morral;18804048X;Croissance, propriétés structurales et optiques du silicium polymorphe;Pere Roca i Cabarrocas;Roca i Cabarrocas Pere;034125663;Palaiseau, Ecole polytechnique;027309320;Physique atomique et moléculaire;soutenue;;01-01-2001;fr;2001EPXX0033;non;24-05-2013;18-01-2021;
Mohammed Mansour;11316906X;Etude des propriétés optiques de nanoparticules de semiconducteurs : application de l'ellipsométrie aux silicium et germanium nanostructurés;Luc Johann;Johann Luc;113169531;Metz;026403366;Physique de la matière et des matériaux;soutenue;;01-01-2006;fr;2006METZ012S;oui;24-05-2013;15-07-2020;
Razvigor Ossikovski;178897833;Application de l'ellipsometrie infrarouge a l'etude des proprietes vibrationnelles, de la croissance et des interfaces de couches minces;Bernard Drévillon;Drévillon Bernard;052466957;Palaiseau, Ecole polytechnique;027309320;Physique;soutenue;;01-01-1995;fr;1995EPXX0010;non;24-05-2013;18-01-2021;
Alexandre Poirier;238128628;Propriétés fonctionnelles de protéines végétales, en volume et aux interfaces fluides;Laurence Ramos;Ramos Laurence;116999411;Montpellier;183316401;Physique;soutenue;;02-04-2019;fr;2019MONTS005;oui;14-03-2019;08-09-2020;
Kevin Ehrhardt;188096329;Mesures, modélisations et simulations numériques des propriétés optiques effectives de métamatériaux auto-assemblés;Virginie Ponsinet,Ashod Aradian;Ponsinet Virginie,Aradian Ashod;124094686,157626466;Bordeaux;175206562;Chimie Physique;soutenue;;15-12-2014;fr;2014BORD0309;oui;09-02-2015;05-10-2019;
Christophe Coutant;186041047;Synthèse, assemblage et caractérisation de matériaux plasmoniques pour une application aux métamatériaux;Philippe Barois,Serge Ravaine;Barois Philippe,Ravaine Serge;069348758,08512611X;Bordeaux;175206562;Physico-Chimie de la Matière Condensée;soutenue;;16-12-2014;fr;2014BORD0345;oui;14-01-2015;05-10-2019;
Michel Stchakovsky;250410257;Conception et realisation d'un ellipsometre spectroscopique a modulation de phase. Application a l'etude d'interfaces de materiaux en couches minces;Bernard Drévillon;Drévillon Bernard;052466957;Paris 11;026404664;Physique;soutenue;;01-01-1991;fr;1991PA112256;non;24-05-2013;05-02-2021;
Simon Bulou;150635494;Dépôt de couches minces de SiCN par dépot chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-onde : caractéristion du procédé et des films synthétisés dans un mélange N2/Ar/CH4/H2/hexaméthyldisilazane;Mohammed Belmahi;Belmahi Mohammed;126048568;Nancy 1;026403390;Physique;soutenue;;05-11-2010;fr;2010NAN10107;oui;23-06-2011;27-08-2020;
Alex Amato;242324703;Low Thermal Noise Coating for New Generation Gravitational-Wave Detectors;Gianpietro Cagnoli,Maurizio Canepa,Massimo Granata;Cagnoli Gianpietro,Canepa Maurizio,Granata Massimo;237707683,166006610,161682936;Lyon;190915757;Physique des matériaux;soutenue;;22-11-2019;en;2019LYSE1245;oui;14-03-2018;18-09-2020;
Mohamed Souheib Chebil;176493794;Etude de films ultraminces de polystyrène par réflectivité des rayons X et ellipsométrie en fonction de leur exposition à du CO2;Alain Gibaud,Yves Grohens,Guillaume Vignaud;Gibaud Alain,Grohens Yves,Vignaud Guillaume;032531095,087233215,177276606;Le Mans;026404435;Physique;soutenue;;28-10-2013;fr;2013LEMA1022;oui;12-12-2014;04-07-2018;
Rachida Saoudi;144820374;Propriétés physicochimiques de films minces d'oxydes et d'oxynitrures de silicium et structure microscopique des interfaces SiO2-Si(100), SiOxNy-Si(100);Jean Tousset;Tousset Jean;099222906;Lyon 1;026402823;Sciences;soutenue;;01-01-1990;fr;1990LYO10165;non;24-05-2013;15-07-2020;
Xavier Mellhaoui;112346790;Mécanismes physico-chimiques dans le procédé de gravure plasma du Silicium;Pierre Ranson,Rémi Dussart;Ranson Pierre,Dussart Rémi;05566766X,070190968;Orléans;026402971;Physique des plasmas;soutenue;;01-01-2006;enfr;2006ORLE2001;non;24-05-2013;12-07-2020;
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