Elaboration par CVI/CVD et caractérisation de dépôts dans le système Si-N(-O)
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Auteur / Autrice : | Benjamin Cossou |
Direction : | Georges Chollon, Sylvain Jacques |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Physico-chimie de la matière condensée |
Date : | Soutenance le 14/09/2018 |
Etablissement(s) : | Bordeaux |
Ecole(s) doctorale(s) : | École doctorale des sciences chimiques (Talence, Gironde ; 1991-....) |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Laboratoire des Composites Thermostructuraux (Bordeaux) |
Jury : | Président / Présidente : Christelle Tixier |
Examinateurs / Examinatrices : Georges Chollon, Sylvain Jacques, Christelle Tixier, Constantin Vahlas, Gabriel Ferro, Clément Lomonaco | |
Rapporteurs / Rapporteuses : Constantin Vahlas, Gabriel Ferro |
Mots clés
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Résumé
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La thèse porte sur cette couche de nitrure ou d’oxynitrure de silicium. Le déroulé prévoit l’élaboration des deux types de dépôts par voie gazeuse (par Chemical Vapor Infiltration CVI), la caractérisation de ces dépôts (par tous les moyens scientifiques à disposition et jugés utiles), ainsi que des essais en conditions proches de l’application visée (haute température, présence de phases liquides) pour juger de l’efficacité de ces dépôts et notamment effectuer une comparaison entre le nitrure et l’oxynitrure. Une étude complète des paramètres modifiables lors de l’élaboration et de leur effet sur la chimie (et par conséquent l’influence sur le comportement du matériau en conditions d’utilisation) représente le cœur du travail considéré.