Thèse soutenue

Tranchée d'isolement profonde de type capacité MOS verticale pour les capteurs d'images CMOS

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Auteur / Autrice : Nayera Ahmed
Direction : Guo Neng LuFrançois Roy
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Microélectronique
Date : Soutenance le 08/04/2015
Etablissement(s) : Lyon 1
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Électronique, électrotechnique, automatique (Lyon)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Institut des Nanotechnologies de Lyon (Ecully, Rhône)
Jury : Président / Présidente : Francis Balestra
Examinateurs / Examinatrices : Guo Neng Lu, François Roy, Rémi Barbier
Rapporteurs / Rapporteuses : Albert J. P. Theuwissen, Patrick Garda

Mots clés

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Résumé

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