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Photolithographie UV-profond d'oxoclusters métalliques : Des processus photochimiques aux applications en nanofabrication

Stehlin, Fabrice (1986-....)

2013

Résumé

Le but principal de ce travail de thèse est de proposer un matériau précurseur d'oxydes métalliques (ZrO2, TiO2, HfO2) compatible avec la technique de photolithographie interférentielle DUV. Des oxoclusters de métaux (MOC) de transitions obtenus par complexation d’un ligand organique et hydrolysé partiellement ont été proposé comme briques élémentaires pour construire ces nanostructures. [...]
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