TY  - THES
DP  - http://www.theses.fr/2009NANT2088
TI  - Mise au point de matériaux barrières diélectriques de type 1-SiC:H à faible permittivité déposés par PECVD pour réduire la capacité intermétallique dans les interconnexions avancées des circuits intégrés
AU  - Charles-Alfred, Cédric
A3  - Granier, Agnès; Jousseaume, Vincent
PY  - 2009
SP  - 1 vol. (177 f.)
N1  - Thèse de doctorat Sciences des matériaux, plasma et couches minces Nantes 2009
N1  - 2009NANT2088
ER  -